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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統
產品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等組成。設備用途：脈沖激光沉積(Pu...
型號： PLD450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:35:21 對比

PLD450 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統
產品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。設備用途：用于...
型號： PLD300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:33:19 對比

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統 PLD 沈陽科儀
高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統
產品概述：高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用可行軟件控制系統...
型號： FJL560 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:31:34 對比

沈陽科儀磁控濺射離子束
SiC分子外延系統
Epiluvac 產品通常作為完整的系統交付，包括反應器模塊、氣體輸送系統、過程控制、安全系統、安裝和調試。每個系統在發貨前都經過廣泛的測試，一旦安裝，交付還包...
型號： Epiluvac ... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:29:12 對比

SiC外延分子外延薄膜沉積
勻膠機
laurell的WS-650-8 B 型勻膠機結構緊湊，具有優良的功能。這款650系列涂布機系統將可容納最大200mm晶圓和 7英寸×7英寸（1...
型號： WS-650-8B 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:26:47 對比

半導體前道勻膠機
勻膠機
laurell的WS-650-23B型勻膠機結構緊湊，具有優良的功能。這款650系列涂布機系統將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127m...
型號： WS-650-23... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:24:33 對比

半導體前道勻膠機
勻膠機
laurell的H6-15系列勻膠機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款650系列HL涂布機系統將可容納高達300mm 的晶圓...
型號： H6-15 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:22:10 對比

半導體前道勻膠機
金屬有機化學氣相沉積MOCVD
Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業界最高性能的金屬有機物化學氣相沉積系統MOCVD，可實現出色的均勻性和可重復性，以及低缺陷率。Vee...
型號： TurboDisc... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:20:01 對比

金屬有機化學氣相沉積 MOCVD
勻膠機
laurell的H6-23型的勻膠機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統將可容納最大 150m...
型號： H6-23 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:18:04 對比

半導體前道勻膠機
勻膠機
H6-8型勻膠機機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統將可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
型號： H6-8 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:13:08 對比

半導體前道勻膠
金屬化學氣相沉積MOCVD
用于 5G、光子學和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統全自動單晶圓簇系統可在 300 毫米基板上生產 5G 射頻、光子學和高級 ...
型號： Propel 30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:07:25 對比

金屬化學氣相沉積 MOCVD
金屬有機化學氣相沉積
Propel HVM GaN MOCVD 系統，用于電源、5G 射頻和光子學，單晶圓反應器技術為電源、5G 射頻和光子學應用提供高效、高質量的氮化鎵基器件
型號： Propel HV... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:03:27 對比

金屬有機化學氣相沉積 MOCVD
原子層沉積ALD
用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
型號： Genesis A... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:59:14 對比

ALD Beneq 原子層沉積半導體
金屬有機物化學氣相沉積設備
適用于光電應用的 Lumina AS/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
型號： Lumina AS... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:57:40 對比

金屬有機物化學氣相沉積 MOCVD
原子層沉積ALD
Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業研發而設計。Beneq TFS 200 經過專門設計，可最大限度地減少多用戶...
型號： Beneq TFS... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:53:35 對比

Beneq ALD 原子層沉積半導體
原子層沉積ALD
Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統，專門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直...
型號： Beneq P15... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:49:10 對比

ALD 原子層沉積半導體 Beneq
離子束沉積設備
適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積數據存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積（IBD）系統大幅提高 80Gb/...
型號： NEXUS IBD 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:44:54 對比

薄膜沉積離子束沉積
原子層沉積ALD
Beneq P800 專門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...
型號： Beneq P80... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:40:45 對比

ALD 原子層沉積
原子層沉積ALD
Beneq P400A 專為以優化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環時間內保持出色的均勻性。我們的客...
型號： Beneq P40... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:38:45 對比

原子層沉積 ALD 半導體
離子束沉積設備
光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統可以應對這一挑戰。自 1990 年代以來，...
型號： NEXUS IBD... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:35:09 對比

PVD 離子束沉積薄膜沉積