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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 磁控濺射鍍膜設備

    Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設備專為磁控濺射沉積應用而設計。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設計...
    型號: LAB Line 所在地:美國 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:43:37 對比
  • 多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺

    Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統,可實現 ...
    型號: PRO Line ... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:41:17 對比
  • 多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺

    Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺的下一代薄膜沉積系統。P...
    型號: PRO Line ... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:28:40 對比
  • 物理氣相沉積PVD

    Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統為各種薄膜沉積應用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米,具有先進的工藝...
    型號: NEXUS 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:26:11 對比
  • 等離子增強原子層沉積PEALD

    我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統,采用靈活的架構和多種前驅體和等離子體氣體配置,可適應各種沉積模式。Fiji G2 是下一...
    型號: Fiji 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:24:18 對比
  • 熱蒸發薄膜沉積系統

    Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發薄膜沉積系統是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套...
    型號: NANO 36&t... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:20:13 對比
  • 原子層沉積ALD

    用于高級研究的先進能力Veeco 是原子層沉積 (ALD) 系統供應商,為研究和工業提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統,這些系統易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺...
    型號: Savannah 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:16:29 對比
  • 原子層沉積ALD

    Phoenix®系統經過精心設計,可在從中試生產到工業級制造的任何制造環境中實現高吞吐量和最長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 Phoenix&...
    型號: Phoenix 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:07:53 對比
  • 分子束外延MBE

    GEN2000® MBE 系統提供吞吐量、更長的活動周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無線通信設備大批量生產以及...
    型號: GEN2000 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 12:04:12 對比
  • 分子束外延MBE

    Veeco 的 GEN200® MBE 系統是當今市場上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產 MBE 系統。該系統在用于泵浦激光器、VCSEL 和 H...
    型號: GEN200 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:59:28 對比
  • 分子束外延MBE

    Veeco 的 GEN20™ MBE 系統是一種超靈活的工具,其設計可針對 III-V 族和新興材料進行配置,包括需要集成電子束技術的應用。該系統采...
    型號: GEN20 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:57:40 對比
  • 分子束外延MBE

    屢獲殊榮的新型 GENxcel™ 系統是在 GENxplor 的基礎上進行的擴展,GENxplor™ 是自 2013 年 8 月推出以來...
    型號: GENxcel R... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:56:06 對比
  • 分子束外延MBE

    GEN10™ MBE 系統是成熟平臺中經濟、最靈活的簇狀工具系統,允許多達三個可配置的、特定于材料的生長模塊。這使得系統利用率高,允許多個研究人員同...
    型號: GEN10 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:54:01 對比
  • MBE分子束外延系統

    GENxplor® R&D MBE系統獲得了化合物半導體制造的CSindustry獎,采用Veeco成熟的3英寸生長室設計,并具工藝靈活性,非常適合U...
    型號: GENxplor ... 所在地:國外 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:51:47 對比
  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預算。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓,以實現最大的經濟...
    型號: WS-1000MH 所在地:美國 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:48:29 對比
  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺的配置和測試模塊建造和運輸安裝時間短。易于裝載和操作,所有物品都讓操作員方便地觸及。
    型號: WS-1000 所在地:美國 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:46:28 對比
  • 勻膠機

    Laurell的EDC-650-15B型勻膠機結構緊湊,具有先進的功能。這款650系列EDC系統將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸(229m...
    型號: EDC-650-1... 所在地:美國 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:42:40 對比
  • 勻膠機

    Laurell的EDC-650-8B勻膠機結構緊湊,具有優良的功能。這款650系列EDC系統將可容納最大200mm晶圓和7英寸×7英寸(178mm&#...
    型號: EDC-650-8... 所在地:美國 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:40:19 對比
  • 勻膠機

    Laurell的EDC-650-23B型勻膠機結構緊湊,具有先進的功能。這款650系列EDC系統將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸(127mm...
    型號: EDC-650-2... 所在地:美國 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:38:47 對比
  • 勻膠機

    Laurell的WS-650-15B型勻膠機結構緊湊,具有先進的功能。這款650系列系統將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸(229mm...
    型號: WS-650-15... 所在地:美國 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 11:36:54 對比

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