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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 多腔等離子體工藝系統

    多腔等離子體工藝系統-概述：1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統2.系統可用于研發和小批量生產3.系統兼容 8 吋、6 吋、4 吋、...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:36:55 對比

  • 透射電鏡樣品桿存儲儀

    CIF透射電鏡樣品桿存儲儀采用無油隔膜泵，通過抽真空產生100 Pa恒定潔凈無污染的真空環境，特別適用于TEM透射電鏡樣品桿的日常真空儲存或水汽去除，簡單方便實...
    型號： CIF-TEM 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:31:13 對比

  • 烤膠機

    CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術，控溫精準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻...
    型號： PH22/35/2... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:29:07 對比

  • 勻膠機

    CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片...
    型號： MSC/SC1/2 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:27:14 對比

  • 紫外臭氧清洗機

    CIF紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污...
    型號： UVO系列 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:23:58 對比

  • CIF 生產型等離子清洗機

    CIF 生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客戶而設計的等離子體表面處理設備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數生產場景。適用于等離子清洗，活化以及刻...
    型號： CPC15/35/... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:11:58 對比

  • 刻蝕機終點檢測系統

    刻蝕機終點檢測系統 檢測原理：通過特定波長譜線的強度變化來反映是否達到刻蝕終點。
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:05:14 對比

  • 熱蒸發鍍膜機Thermal Evaporation

    熱蒸發鍍膜機Thermal Evaporation 設備用途：熱蒸發是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積于基體或工件表面并...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 9:56:40 對比

  • 探針式輪廓儀/臺階儀

    探針式輪廓儀/臺階儀技術優勢：1. 每次掃描數據點：最多可達120.000數據點2. 最大樣品厚度：50mm(2英寸)3. 最大晶圓尺寸：200mm(8英寸)4...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 8:21:43 對比

  • 半導體研磨拋光機

    半導體研磨拋光機是一款操作簡單的桌面型單面拋光設備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導體材料的研磨拋光，滿足科研院校、企...
    型號： customize... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:47:42 對比

  • 減薄機

    減薄機 簡介：1. 可根據客戶需求定制化各類工作臺，滿足各類半導體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸：8英寸3. 砂輪規格：Ø203(OD)mm4....
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:45:57 對比

  • 劃片機

    精密劃片機，劃片機簡介：半導體晶圓、集成電路、QFN、發光二極管、LED芯片、太陽能電池、電子基片等的劃切，適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:43:43 對比

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