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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 深硅刻蝕機

    深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實現多工藝領域覆蓋。該機臺針對Bosch循環工藝方式采用專業先進...
    型號： PSE V300 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 14:59:45 對比

  • 深硅刻蝕機

    深硅刻蝕機HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結構布局，能夠減小占地，提升產能。系統主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區部件、電源柜等組成。可實...
    型號： HSE系列 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 14:57:46 對比

  • 等離子刻蝕集群系統

    SENTECH 集群系統包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內的轉移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站...
    型號： SENTECH 集... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:46:34 對比

  • AL實時監控器

    SENTECH AL 實時監測器是一種經過驗證的光學診斷工具，可實現單個 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性（生長...
    型號： SENTECH A... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:33:06 對比

  • RIE等離子刻蝕系統

    SENTECH SI 500 CCP 系統使用動態溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設置和穩定性是高質量蝕刻的嚴格標準...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:17:58 對比

  • 等離子刻蝕系統RIE

    SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統具有負載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:02:20 對比

  • RIE等離子蝕刻系統

    SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統，結合了RIE平行板電極設計的優點和直接負載的成本效益設計。
    型號： SENTECH E... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:54:22 對比

  • 低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統

    SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統代表了電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿技術，其最寬溫度范圍為 -150 ...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:47:43 對比

  • 反應性離子刻蝕系統RIE

    PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統，該系統為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:07:34 對比

  • 反應性離子刻蝕系統RIE

    PlasmaPro 80是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:47:48 對比

  • 單晶圓刻蝕系統

    憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經驗，我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優化。PlasmaPro 100 Polaris單...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:27:42 對比

  • 電感耦合等離子體刻蝕

    PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系統利用高密度電感耦合等離子體實現快速刻蝕速率。該工藝模塊可提供出色的均勻性、高吞吐量、高精度和低損傷工藝...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:25:56 對比

  • 離子束刻蝕機

    EIS-1500是由ELIONIX研發的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內分布監控功能，可以實現各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機。
    型號： EIS-1500 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:21:41 對比

  • 離子束刻蝕機

    EIS-200ERP是由ELIONIX研發的離子束刻蝕機，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進行納米蝕刻和沉積，制品特微。
    型號： EIS-200ER... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:18:17 對比

  • 緊透尺寸檢測系統

    可靠、快速和可重復的手動和自動檢測基于VoidInspect的自動氣泡計算易于使用的動態增強過濾功能，例如eHDR使用micro3Dslice和FF CT軟件的...
    型號： Cougar EV... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:51:43 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設備

    Pishow® D 系列深刻蝕設備，是針對8英寸~6英寸產線或科研深硅刻蝕工藝的專用設備，擁有自主開發的優化設計，保證了優異的刻蝕精度控制和損傷控制。...
    型號： Pishow... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:29:54 對比

  • 8英寸金屬刻蝕設備

    Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產線鋁金屬工藝的量產型機臺，基于自有開發的優化設計，保證了優異的刻蝕均...
    型號： Kessel... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:25:35 對比

  • 8英寸硅刻蝕設備

    Tebaank® Pishow® P 硅刻蝕設備是面向8英寸集成電路制造的量產型設備設備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch cham...
    型號： Tebaank&#... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:24:03 對比

  • 12英寸金屬刻蝕設備

    Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備，為針對12英寸IC產業0.18微米以下后道高密度鋁導線互連工藝所開發的專用產品， 同時也...
    型號： Herent... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:22:06 對比

  • 12英寸硬掩膜刻蝕設備

    Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設備，為針對 12 英寸 IC 產業的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（met...
    型號： Herent... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:19:45 對比
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