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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 8英寸離子束塑形（IBS）設備

    Lorem® A 系列常規 IBS 設備，由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間，起輝不...
    型號： Lorem... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:15:45 對比

  • 12英寸離子束塑形（IBS) 設備

    Pangea®A系列常規IBS設備由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間，起輝不受非揮發...
    型號： Pangea... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:13:49 對比

  • 12英寸特種金屬膜層刻蝕設備

    LMEC-300™ 是魯汶儀器針對特種金屬膜層刻蝕而推出的 12 英寸集成設備，應用于新興存儲器件的制備。此類器件的核心功能單元含有成分復雜的金屬疊...
    型號： LMEC-300 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:11:35 對比

  • 單片濕法刻蝕機

    滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
    型號： KS-S300-E 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:25:30 對比

  • 開蓋等離子蝕刻系統

    等離子蝕刻系統 Etchlab 200 具有經濟高效的 RIE 直接加載的優點。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統代表了一系列直接加載...
    型號： Etchlab 2... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:43:59 對比

  • 等離子蝕刻系統

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 （ICP） 源，可實現低損傷蝕刻和納米結構。
    型號： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:27:46 對比

  • 等離子體蝕刻系統

    SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設計的電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統代...
    型號： SI 500 C 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:26:15 對比

  • 原子層刻蝕

    ALE是一種先進的刻蝕技術，可以針對較淺的微結構進行出色的深度控制。 隨著器件微結構尺寸越來越小，要達到器件的更高性能可以通過ALE技術所具有的精度來實現。在如...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:13:14 對比

  • Lancer離子束蝕刻系統

    新型 Lancer™ 離子束蝕刻 （IBE） 系統專為開發和生產智能手機、自動駕駛汽車和其他可實現連接性、功能性和移動性的“物聯網"設備中的下一代電...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:03:26 對比

  • 干法刻蝕裝置

    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral l...
    型號： NLD-5700 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:10:19 對比

  • 干法刻蝕設備

    干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX對應LED量產用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源...
    型號： APIOS NE-... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:08:22 對比

  • NLD干法刻蝕設備

    研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發科磁性中性線（NLD- neutral loop discha...
    型號： NLD-570 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:06:19 對比

  • 高密度等離子刻蝕裝置

    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型號： ULHITETM ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:03:51 對比

  • 刻蝕設備

    量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。
    型號： NE-5700/N... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:01:45 對比

  • 緊湊型刻蝕設備

    RIE-1C是用于半導體芯片故障分析的緊湊型刻蝕設備。可以高效、低損傷地去除鈍化膜。它操作簡單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個過程。可以放在桌面上，也可...
    型號： RIE-1C 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 14:05:08 對比

  • RIE等離子刻蝕設備

    RIE-300NR是一種理想的RIE等離子刻蝕設備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×...
    型號： RIE-300NR 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 14:02:54 對比

  • RIE等離子刻蝕設備

    RIE-200C RIE等離子刻蝕設備是在擁有豐富交貨業績的CCP RIE系統 “RIE-10NR “的基礎上開發的量產型盒式裝載系統。該系統可對Si、Poly...
    型號： RIE-200C 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 14:00:57 對比

  • RIE等離子刻蝕系統

    RIE-200NL是一種負載鎖定型的反應離子蝕刻系統，它提高了工藝的可重復性，并允許腐蝕性氣體化學。優化的工藝室設計可在ø8 “晶圓或ø22...
    型號： RIE-200NL 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 13:58:44 對比

  • 等離子體刻蝕設備

    高密度等離子體刻蝕設備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統配備了真空盒室，是一套完整的生產系統，具有優良的工藝重復性和穩定性。
    型號： RIE-800iP 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 13:56:54 對比

  • RIE等離子刻蝕設備

    RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動RIE等離子刻蝕設備，它能滿足非腐蝕性氣體化學苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數控制和存儲提供了一個用戶友...
    型號： RIE-10NR 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 13:55:13 對比
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