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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預算。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓，以實現最大的經濟...
    型號： WS-1000MH 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:48:29 對比

  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺的配置和測試模塊建造和運輸安裝時間短。易于裝載和操作，所有物品都讓操作員方便地觸及。
    型號： WS-1000 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:46:28 對比

  • 勻膠機

    Laurell的EDC-650-15B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229m...
    型號： EDC-650-1... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:42:40 對比

  • 勻膠機

    Laurell的EDC-650-8B勻膠機結構緊湊，具有優良的功能。這款650系列EDC系統將可容納最大200mm晶圓和7英寸×7英寸（178mm&#...
    型號： EDC-650-8... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:40:19 對比

  • 勻膠機

    Laurell的EDC-650-23B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm...
    型號： EDC-650-2... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:38:47 對比

  • 勻膠機

    Laurell的WS-650-15B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列系統將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm...
    型號： WS-650-15... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:36:54 對比

  • 勻膠機

    laurell的WS-650-8 B 型勻膠機結構緊湊，具有優良的功能。這款650系列涂布機系統 將 可容納最大200mm晶圓和 7英寸×7英寸 （1...
    型號： WS-650-8B 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:26:47 對比

  • 勻膠機

    laurell的WS-650-23B型勻膠機結構緊湊，具有優良的功能。這款650系列涂布機系統 將 可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127m...
    型號： WS-650-23... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:24:33 對比

  • 勻膠機

    laurell的H6-15系列勻膠機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款650系列HL涂布機系統 將 可容納高達300mm 的晶圓...
    型號： H6-15 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:22:10 對比

  • 勻膠機

    laurell的H6-23型的勻膠機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統 將 可容納最大 150m...
    型號： H6-23 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:18:04 對比

  • 勻膠機

    H6-8型勻膠機機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統 將 可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
    型號： H6-8 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:13:08 對比

  • AP200/300 投影步進式光刻機

    AP200/300 系列光刻系統基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構建，可提供覆蓋層、分辨率和側壁輪廓性能，并可實現高度自動化和具有成本...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:28:59 對比

  • IoN系列等離子清洗去膠系統

    IoN系列等離子清洗去系統具有多種射頻電源選項，可滿足客戶的特定工藝和產量要求。 我們提供不同腔體和電極配置，最大腔體可達 1200 升。
    型號： IoN 10Q 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:19:03 對比

  • 晶圓清洗機

    高效的緊湊型清洗裝置，為您的流程提供支持977晶圓清洗機系統專為切割后工件清洗和干燥而設計，配有旋轉卡盤臺、旋轉清洗/干燥臂。臂可配置霧化清潔噴嘴或高壓噴嘴，滿...
    型號： 977 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:50:47 對比

  • 雙軸全自動晶圓劃片機

    8230雙軸全自動晶圓劃片機：一款專為半導體制造設計的設備，集高效、精準、高性能與低成本于一身，最大支持12英寸晶圓切割。雙軸對向設計，提升切割效率，滿足高精度...
    型號： 8230 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:48:54 對比

  • 雙軸半自動劃片機

    雙軸半自動劃片機是一款先進的半導體切割設備，廣泛應用于半導體制造和封裝領域。該設備結合了高精度、高效率和穩定性等特點，能夠滿足現代半導體工業對切割精度的嚴格要求...
    型號： 7920 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:44:24 對比

  • 劃片機

    7234劃片機是一款高精度的半導體切割設備，主要用于晶圓或其他材料的切割加工。它配備了4英寸的空氣軸承主軸，采用直流無刷電機驅動，轉速高達30krpm，能夠兼容...
    型號： 7234 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:40:22 對比

  • 等離子清洗和加熱機

    由德國UNITEMP研發的等離子清洗和加熱機，最大零件裝載面積：305 mm x 305 mm（最大零件高度為 25 mm）。
    型號： PTP-300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:36:50 對比

  • 半自動劃片機

    6110是一款高精度、高性能單軸半自動劃片機，機身寬度490mm，占地面積小，結合全新設計的操作系統，提供高效、低使用成本的切割體驗。
    型號： 6110 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:35:04 對比

  • 鈣鈦礦專用涂膜機

    鈣鈦礦專用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質陽極氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性。可選配多種涂膜工具，適應不...
    型號： PF200-H 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:12:47 對比
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