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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 無掩模對光刻機

    無掩模對光刻機 MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執行系統 （MES） 的集成。該工具用于生產傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
    型號： MLA 300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:28:32 對比

  • 無掩模直接成像儀

    VPG 300 DI 無掩模直接成像儀是一款體積圖案發生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統...
    型號： VPG 300 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:22:48 對比

  • 激光光刻機.

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統是快速、靈活的高分辨率圖形發生器。它們針對工業級灰度光刻進行了優化，設計用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:18:52 對比

  • 投影步進電機

    AP200/300 系列光刻系統基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構建，可提供覆蓋層、分辨率和側壁輪廓性能，并可實現高度自動化和具有成本...
    型號： AP200/300 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:07:13 對比

  • 無掩模光刻機

    μMLA無掩模光刻機是優良的無模板技術，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統。
    型號： μMLA 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:59:06 對比

  • 涂膠與顯影機

    ACS300 Gen3作為模塊化系統，是為滿足量產環境而專門設計的。它提供了復雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:57:03 對比

  • 掩膜自動處理系統

    掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統滿足下一代光刻節點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 ...
    型號： MaskTrack... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:55:10 對比

  • 烤膠機

    CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術，控溫精準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻...
    型號： PH22/35/2... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:29:07 對比

  • 勻膠機

    CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片...
    型號： MSC/SC1/2 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:27:14 對比

  • 掃描電鏡等離子清洗機

    CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。
    型號： CIF-SEM 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:22:02 對比

  • 等離子去膠機

    CIF等離子去膠機 采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體去膠。其外觀美學設計，結構緊湊，漂亮大氣，...
    型號： SPB-5/plu... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:15:39 對比

  • CIF 生產型等離子清洗機

    CIF 生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客戶而設計的等離子體表面處理設備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數生產場景。適用于等離子清洗，活化以及刻...
    型號： CPC15/35/... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 10:11:58 對比

  • 晶圓甩干機

    1.是高潔凈度的沖洗旋干設備。主要系應用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設備具有單工作室、雙工作室兩種結構。2.產品類型：有立式單腔，雙腔...
    型號： customize... 所在地：無錫市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:49:48 對比

  • 噴涂膠機

    在噴涂法中，噴嘴將要涂抹的溶液噴在晶圓上。經過優化后的晶圓上方噴嘴移動路徑可以實現在襯底上均勻的涂層。 噴涂所用的液體通常粘度極低，以確保形成細小的液滴
    型號： AS8 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:23:38 對比

  • 槽式濕法刻蝕清洗設備

    槽式濕法刻蝕清洗設備 應用領域：RCA清洗，濕法去膠，介質層濕法刻蝕，金屬層濕法刻蝕，爐管前清洗等
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:15:14 對比

  • 等離子清洗&去膠機

    等離子清洗&去膠機產品簡介：1) 用途：材料清洗、材料活化、材料刻蝕、材料涂覆(2) 80 kHz：功率 1000 或 3000 W(3) 13.56 MHz：...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:13:33 對比

  • 充氮型程控烤膠機

    充氮型程控烤膠機 產品性能：1.充氮烤膠機是在普通基礎上增加密封蓋和氮氣注入口，保證氮氣均勻通入烤膠機內部形成惰性氣體保護氣氛。2.充氮烤膠機最高溫度可達到30...
    型號： AC200-PE 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:11:03 對比

  • 實驗型勻膠機

    實驗型勻膠機 技術參數：1.適用基片尺寸：小于1cm小碎片及到8寸標準晶圓，非標準基片可定制載物盤2.自動滴膠功能3.支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗、控溫等功...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:09:30 對比

  • 納米壓印系統

    納米壓印系統 簡介：1. 兼容基底尺寸：直徑≤100mm2. 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等3. 納米壓印技術：旋涂膠基底高精度壓印&點膠自動找平...
    型號： GL6 R&... 所在地：青島市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:07:59 對比

  • 無掩膜/激光直寫光刻機

    無掩膜/激光直寫光刻機 參數：1. 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器2. 線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm3. 光刻效...
    型號： UV Litho-... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:05:50 對比
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