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公司名稱
德國韋氏納米系統有限公司
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品牌
DuPont/杜邦
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型號
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產地
美國
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廠商性質
生產廠家
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更新時間
2025/6/27 15:04:50
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訪問次數
14
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FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學博士共同創辦的德國公司?；?/span> “Science is international”的想法，“全球協同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。
公司愿景是從科學家到科學家，科學開創美好未來。
FIRSTNANO深耕于半導體技術、材料科學、生命科學等科研領域，始終秉承“前沿、專業、科學”的宗旨，將前沿技術引進到協同實驗室。我們的產品覆蓋了微納加工制程；材料科學的檢測、分析；生命科學成像，腦科學與行為認知等相關領域。作為全球科技前沿的儀器供應商，FIRSTNANO具有全球技術視野、優質供應體系、以及嚴格的質量管控系統，能為客戶提供前沿的技術解決方案。
公司服務的客戶領域廣泛，其中包括消費電子、航空、航天、醫藥技術、半導體行業、光電子行業、高校和研究機構。
在成長的過程中，我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港（中華區）公司成立以來，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設立了分支機構。
我們真誠邀請業內英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢想揚帆起航！
| 供貨周期 |
現貨 |
應用領域 |
化工,生物產業,電子/電池,航空航天 |
PCMP清洗劑適用于前端工藝（FEOL）中的氧化鈰、多晶硅、二氧化硅材料，中端工藝（MEOL）中的鎢材料，以及后端工藝（BEOL）中的銅材料制程
?PCMP2110系列–氧化鈰漿料化學機械拋光（CMP）清洗產品，專為前端工藝（FEOL）、中間段工藝（MEOL）及存儲陣列層中使用氧化鈰 CMP 漿料后晶圓的清洗而設計
?PCMP3210系列–化學機械拋光（CMP）后鎢互連清洗產品，兼容鎢（W）和鈷（Co）材料，在 TEOS（四乙氧基硅烷）或氮化硅（SiN）表面具有極低的缺陷率
?EKC2100–用于清潔蝕刻后殘留物，適用于單晶圓設備，與低溫氧化物（LTO）和氧化銦錫（ITO）具有良好的兼容性
?PCMP5600系列–化學機械拋光后銅互連結構清洗液（PCMP5610/5620/5615/5650）
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?EKC865 –在不損傷敏感金屬的前提下去除正性光刻膠（在使用 Remover 1165的時候）
?EKC922 –在不損傷固化或半固化聚酰亞胺的前提下，同時去除正性和負性光刻膠
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?EKC162–用于去除作為 TSV（硅通孔）掩膜的光刻膠；兼容通過焊料電鍍或模板印刷實現的晶圓凸塊工藝，適用于銅（Cu）和砷化鎵（GaAs）材料
?EKC175–為去除基于等離子體工藝的類似 TSV（硅通孔）的光刻膠殘留物，需具備可水洗且與鋁兼容的特性
?EKC830–為去除干法刻蝕 TSV（硅通孔）工藝中形成的頑固刻蝕后殘留物，以實現無缺陷的通孔填充工藝
?EKC922 –用于去除負性光刻膠，兼容砷化鎵（GaAs）及種類極其廣泛的金屬材料
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?EKC2100–用于清潔蝕刻后殘留物，適用于單晶圓設備，與低溫氧化物（LTO）和氧化銦錫（ITO）具有良好的兼容性
?EKC6800–用于清潔蝕刻后殘留物的系列產品，與鋁（Al）和銅（Cu）互連結構兼容，具備低工藝溫度特性
?EKC580/EKC590–用于去除銅（Cu）互連結構蝕刻后殘留物的半水性化學制劑，與超低介電常數（ULK）電介質薄膜兼容
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