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ULVAC愛發科 氣體分析儀
ULVAC愛發科 氣體分析儀
榮獲 2023 年日本真空工業協會“真空組件大獎"
反應式過程氣體監測儀 Qulee RGM2-201F 是一款帶有差壓排氣系統的過程監測儀，適用于“型號：Qulee"的蝕刻、CVD 和 ALD 設備等反應過程。 ULVAC 的離子源和排氣系統結構對反應氣體具有出色的耐腐蝕性，可實現長期穩定測量。
長處
排氣系統和控制系統是集成的，可以垂直安裝，并且很小的占地面積使得即使在空間有限的生產線上也可以監測反應氣體。
在維護期間更換耗材套件的速度得到了顯著提高，兩名工人的 120 分鐘工作可以由一個人在 10 分鐘內完成。
雙燈絲即使在第一根燈絲斷裂的情況下也能在不停止生產線的情況下進行氣體分析。
觸摸面板用于實時檢查狀態。
從啟動到測量的作只能在計算機上完成。
得益于我們專有的帶磁體的閉式離子源，即使在反應過程中，也可以進行長期穩定的測量。
電離室氣體解離少，靈敏度高，僅使用法拉第杯即可實現高靈敏度氣體分析。
緊湊的流路控制閥，可防止熱反應引起的分解和吸附。
縮短了從工藝室到離子源的距離，并且可以快速響應分解。
加強預防性維護功能 離子源和二次電子倍增管的
預防性維護 安裝
分析管的可追溯性功能
標準軟件與 Windows 8/10/11 兼容。
用
CVD、ALD 和蝕刻設備
過程中的反應氣體監測
蝕刻清洗過程的端點監控
器
殘余氣體測量
規范
傳感器
| 質量數范圍 （amu） | 1~200 | |
| 分辨率 （m/ΔM） | M/ΔM=1M（10%P.H.） | |
| 探測器 | 法拉第杯 （FC） | |
| 靈敏度 （A/Pa） ＊1 | 1e-5A/Pa（引入直接孔口連接，Ie = 50uA） N2 氣體 = 5e-4Pa 在 Ee 50V | |
| 最小感應分壓 （Pa） ＊1 | E-10Pa （EE50V， IE500uA） | |
| 總壓力測量功能 *1 | 和 | |
| 全壓力測量范圍 *1 | 1E-3 ~ E-6 PA 單元 | |
| 離子源 | 帶磁體閉式離子源 | |
| 燈絲 | Ir/Y2O3 2（其中 1 個是備用的） | |
| 電離電壓 （EE; eV） | 20~70eV （Ie50uA 推薦 50V 設置） | |
| 發射電流 （IE;uA） | 50uA/500uA（EE50V，過程測量推薦 50uA） | |
高斯摩(成都)國際貿易有限公司 - 主營產品： 主要經營光學設備、電子計測、科學儀器、機械加工設備、環境試驗 ...
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