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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 快速退火爐

    由德國UNITEMP研發的快速退火爐RTP-150，升溫速率高達 75 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周...
    型號： RTP-150 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:14:20 對比

  • 快速退火爐

    由德國UNITEMP研發的符合高真空標準的快速退火爐，升溫速率高達 200 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工...
    型號： RTP-100-H... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:10:35 對比

  • 快速退火爐

    德國UNITEMP研發的符合高真空標準的快速退火爐RTP-100-HV，升溫速率可高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和...
    型號： RTP-100-H... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:08:33 對比

  • 快速退火爐

    德國UNITEMP研發的符合真空標準的快速退火爐RTP-100-EP，升溫速率高達 200 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速...
    型號： RTP-100-E... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:04:19 對比

  • 快速退火爐

    快速退火爐，升溫速率高達 150 K/sec。
    型號： RTP-100 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:52:22 對比

  • LED映射分選機

    MPI 自豪地推出 LED 映射分揀機系列，該系列采用模塊化架構設計，具有靈活性，使每個系統都能滿足每個客戶的精確要求。MPI LED 映射分揀機利用先進的 P...
    型號： LED分選系列 所在地：臺北市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:37:39 對比

  • 清洗設備

    SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術節點提供了優良的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩定性和高性能使平臺能...
    型號： ASx 系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:33:18 對比

  • 掩膜版清洗系統

    掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜清洗處理系統滿足下一代光刻節點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 ...
    型號： MaskTrack... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:31:14 對比

  • IVG系列-全/半自動單/雙軸減薄機

    半自動單軸減薄機是一款操作簡單、功能豐富、性價比高的高精度研削設備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統，可自動研削至目標值。工作臺可根據客戶需求進行定...
    型號： 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:14:27 對比

  • 晶片清洗機

    本機是一款全自動晶片刷洗機，全程封閉環境采用機械手自動操作，具備刷洗甩干功能，適用于各種半導體襯底材料拋光后的刷洗，可有效減少晶片表面顆粒污染。
    型號： TWB-200 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:09:51 對比

  • CMP后清洗機

    該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗...
    型號： TSC-100/3... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:08:01 對比

  • CMP后清洗機

    該系列設備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設備，采用連線式結構，設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，...
    型號： TSC-150C/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:05:49 對比

  • CMP拋光機

    POLI-762是小型12英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、...
    型號： POLI-762 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:55:56 對比

  • CMP拋光機

    POLI-500是小型8英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、S...
    型號： POLI-500 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:54:15 對比

  • cmp拋光機

    POLI-400Lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機，采用手動裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、STI、SO...
    型號： POLI-400L 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:51:45 對比

  • 半自動CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜（介質層）的拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統，氣...
    型號： TMP-200S/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:49:41 對比

  • CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜（介質層）的拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統，氣...
    型號： TMP-150A/... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:47:31 對比

  • 全自動CMP拋光機

    全自動CMP拋光機是一款針對薄膜（介質層）的全自動拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用自動化裝片方式，機械手自動取放片，同...
    型號： TPC-2110 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:45:36 對比

  • 雙面晶圓研磨機

    雙面研磨機是一款操作簡單，兼容性強的高效率研磨加工設備。主要用于晶片的雙面機械研磨，通過搭配不同材質的研磨盤和不同粒徑及材質的研磨液，可以實現不同材料，不同尺寸...
    型號： TDL-600/1... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:34:38 對比

  • 臥式減薄機

    臥式減薄機是一款性價比很高的小型高精度研削設備，采用砂輪軸橫臥的安裝方式，手動裝片，通過砂輪進給控制研削量。設備工作臺可根據客戶需求進行定制化，應用廣泛。
    型號： IHG-2010 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:32:29 對比
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