產品優勢
·全封閉式顯影,避免霧氣擴散到外部,污染環境。
·外殼噴塑,耐腐蝕,易清洗。
·內腔不銹鋼材質,鏡面拋光處理,光滑,耐腐蝕,易清洗。
·內置真空過濾器,防止液體吸入真空泵。
·真空壓力可調,壓力值實時顯示。
·液體流量可調,回吸可調。
產品參數
支持wafer尺寸:碎片至200mm(8”圓晶)
·轉速分辨率:±1 RPM
·旋涂速度:20-3000rpm(空載)
·旋涂加速度:20-10,000rpm/sec(空載)
·工藝時間設定: 0-3,000sec/step,時間設置精度: 0.1sec
·該機型適用于標準3路顯影機(1路顯影液,1路純水,1路氮氣)
·單步工藝及多步工藝可選,內置100組可編輯程序
·可根據客戶需求定制四管路顯影機或更大基片的顯影機。