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IONOPTIKA C60-20S 離子源系統

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌IONOPTIKA

廠商性質生產商

所  在  地上海市

更新時間:2024-11-05 12:34:56瀏覽次數:179次

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產地類別 進口 價格區間 面議
儀器種類 四極桿質譜 應用領域 醫療衛生,食品/農產品,化工,生物產業,制藥/生物制藥
IONOPTIKA C60-20S 離子源系統
C60-20S是一種高性能離子束,設計用于濺射表面,具有較小的損傷和減少的沿周濺射效應。
C60-20S在高達20 kV的電壓下工作,可有效地濺射材料,且損傷較小,無需重新沉積碳。
C60是XPS、AES和SIMS的理想升級組件,可在多種材料上均勻濺射。

IONOPTIKA C60-20S 離子源系統


產品特點

雖然所有離子束都會濺射或蝕刻,但我們的一些系統的表面是專為高效和快速濺射而設計的。濺射光束有三個特點:高電流、大光斑尺寸和寬視場。這些特性的結合意味著它們可以在大面積上盡快輸送大劑量的離子,以優化蝕刻速率。

詳細介紹


簡介:

C60-20S是一種高性能離子束,設計用于濺射表面,具有較小的損傷和減少的沿周濺射效應。 

C60-20S在高達20 kV的電壓下工作,可有效地濺射材料,且損傷較小,無需重新沉積碳。

C60是XPS、AES和SIMS的理想升級組件,可在多種材料上均勻濺射。

主要參數:

  • 主要應用                濺射                
    光斑尺寸                100 µm                
    掃描范圍                4 x 4 mm                
    能耗范圍                5 – 20 kV                
    電流范圍                50 nA                
    法蘭至機頭長度                142 mm                
    推薦工作距離                50 mm                
    電源裝置                3U x 19’’ rack mountable unit    
    電源要求                110-240VAC 13A 50/60Hz                
    軟件要求                        PC running Windows 10 or later                   
    集成法蘭規格                NW 63 CF                

















特點:  

◇  電流密度高,蝕刻速度更快;

◇  與單原子束相比,可減少化學損傷;

◇  不同材料和晶體取向的濺射率一致;

◇  閘閥,便于快速維修;

◇  源壽命長;


應用領域: 

◇  聚合物的高速、低化學損傷蝕刻;

◇  C60離子濺射的速度比單原子束(包括氬和氙)快50倍,同時 對底層材料造成的損害要小得多;

◇  下圖比較了15kevC60濺射產率與15kev金、氙鎵和氬的TRIM數據。在相反例子中,用C60和單原子氬離子束濺射清洗PTFE薄膜;

◇  雖然兩種離子束都去除了表面污染,但只有C60離子束的表 面化學性質沒有發生變化; 

  •                


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