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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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KLT 6000KemLab 正性光刻膠 簡(jiǎn)單介紹：KemLab 正性光刻膠 KLT 6000 ，適用于 i-Line、寬帶或 g-Line 曝光。 產(chǎn)品型號(hào)：KLT 6000 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-12 |
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VS160UG II德國(guó)進(jìn)口budatec真空回流焊爐立式 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)進(jìn)口budatec真空回流焊爐立式 面向半導(dǎo)體與光伏精密制造需求開發(fā)，集成真空焊接/燒結(jié)雙工藝模式，搭載±1.5℃超精度溫控模塊與160mm²加熱平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)3K/s級(jí)溫變速率的動(dòng)態(tài)熱管理。德國(guó)原廠制造的智能化系統(tǒng)兼容多元工藝氣體環(huán)境，通過觸控式人機(jī)界面實(shí)現(xiàn)全流程數(shù)字化管控，同步優(yōu)化加工效率與設(shè)備維保便捷性 產(chǎn)品型號(hào)：VS160UG II 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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VS160UG德國(guó)進(jìn)口budatec回流焊爐立柜式 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)進(jìn)口budatec回流焊爐立柜式專為半導(dǎo)體與光伏行業(yè)設(shè)計(jì)，提供高精度溫控和高效能加工。核心功能包括真空焊接和燒結(jié)，支持多種工藝氣體適配。設(shè)備采用德國(guó)柏林制造，具備160×160mm²加熱區(qū)域及±1.5℃控溫精度，支持3K/s加熱/冷卻速率。配備智能工藝控制系統(tǒng)及圖形化界面，確保穩(wěn)定運(yùn)行并簡(jiǎn)化維護(hù)流程。 產(chǎn)品型號(hào)：VS160UG 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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VS160S II德國(guó)進(jìn)口budatec回流焊爐桌面式 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)進(jìn)口budatec回流焊爐桌面式，專用于半導(dǎo)體器件與光伏組件的精密焊接及金屬燒結(jié)工藝。該設(shè)備搭載多通道獨(dú)立溫控模塊，配備每秒3開爾文溫變速率的快速熱循環(huán)系統(tǒng)，集成可編程氣體流量控制器，實(shí)現(xiàn)全流程數(shù)字化控制。系統(tǒng)配置160mm²標(biāo)準(zhǔn)工藝臺(tái)面，支持450℃峰值焊接溫度，兼容氮?dú)獗Ｗo(hù)與N?/H?二元工藝氣體環(huán)境，其圖形化操作界面與智能維保預(yù)警系統(tǒng)可保障高 產(chǎn)品型號(hào)：VS160S II 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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VS160S德國(guó)進(jìn)口budatec真空回流焊爐 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)進(jìn)口budatec真空回流焊爐，專為半導(dǎo)體和光伏器件的焊接與燒結(jié)工藝設(shè)計(jì)。具備高精度溫控、快速升降溫（3K/s）及靈活的氣體流量編程控制，支持全數(shù)字化工藝管理。設(shè)備采用160×160mm²工作臺(tái)，最高焊接溫度達(dá)450℃，并提供氮?dú)饧暗獨(dú)浠旌蠚庵С帧Ｆ涠嗤ǖ罍乜?、圖形化界面及智能維護(hù)功能確保高效穩(wěn)定運(yùn)行，適用于精密焊接需求。 產(chǎn)品型號(hào)：VS160S 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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L2006ossila浸涂機(jī)Dip Coating 簡(jiǎn)單介紹：ossila浸涂機(jī)Dip Coating是一款專為研究人員設(shè)計(jì)的高性能薄膜涂覆設(shè)備，具有高精度電機(jī)、平穩(wěn)運(yùn)動(dòng)及廣泛的基材兼容性等優(yōu)點(diǎn)。其速度范圍廣，從0.01mm/s到50mm/s，確保了不同厚度的涂層需求。 產(chǎn)品型號(hào)：L2006 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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L2006Aossila浸涂機(jī)Dip Coater 簡(jiǎn)單介紹：ossila浸涂機(jī)Dip Coater通過0.01-50mm/s精密調(diào)速（速率重復(fù)性±0.01%@1mm/s）結(jié)合嵌入式控制軟件（10組×20程序），實(shí)現(xiàn)100mm行程內(nèi)±0.3%運(yùn)動(dòng)精度，緊湊結(jié)構(gòu)（200×300×350mm）集成碰撞防護(hù)與99小時(shí)59分連續(xù)運(yùn)行能力，適配多元基材涂覆需求。 產(chǎn)品型號(hào)：L2006A 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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L2002ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner 簡(jiǎn)單介紹：ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner搭載4支150mm合成石英燈管（185nm/254nm雙波段輸出），通過紫外光解氧分子生成臭氧，實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物的非接觸式氧化分解。系統(tǒng)配備153mm直徑可溫控樣品臺(tái)，支持12mm厚度內(nèi)各類基材處理。 產(chǎn)品型號(hào)：L2002 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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L2002Aossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO 簡(jiǎn)單介紹：ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO作為精密表面處理設(shè)備，通過高強(qiáng)度雙波段紫外光源（185nm/254nm）激發(fā)臭氧氧化反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物的無損傷分解與揮發(fā)，可在多元基材（石英/硅/金屬/玻璃等）表面獲得原子級(jí)潔凈度。系統(tǒng)配置153mm直徑溫控樣品臺(tái)，集成LCD雙模計(jì)時(shí)顯示（剩余/已用時(shí)間），內(nèi)置機(jī)械聯(lián)鎖與過熱保護(hù)機(jī)制，適用于表面能改性（親水化處理）、薄膜沉積預(yù)處理、精密器件清洗等關(guān)鍵工藝。 產(chǎn)品型號(hào)：L2002A 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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L2001Ossila勻膠機(jī)旋涂?jī)x 簡(jiǎn)單介紹：Ossila勻膠機(jī)旋涂?jī)x以經(jīng)濟(jì)型設(shè)計(jì)融合實(shí)驗(yàn)室操作需求，采用免真空技術(shù)替代傳統(tǒng)真空泵/氮?dú)庖蕾?，通過特制凹槽托盤實(shí)現(xiàn)基片穩(wěn)定固定。設(shè)備集成10組可編程參數(shù)模塊，支持120-6000 RPM寬域調(diào)速及多工序流程設(shè)定，配備不銹鋼防腐蝕外殼與24V直流安全供電系統(tǒng)，適配多種規(guī)格基片處理，在簡(jiǎn)化操作流程的同時(shí)降低維護(hù)成本，滿足實(shí)驗(yàn)室精準(zhǔn)涂覆與耐用性需求。 產(chǎn)品型號(hào)：L2001 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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L2001AOssila勻膠機(jī)Spin Coater 簡(jiǎn)單介紹：Ossila勻膠機(jī)Spin Coater 采用創(chuàng)新機(jī)械設(shè)計(jì)，專為實(shí)驗(yàn)室環(huán)境研發(fā)，具備精準(zhǔn)薄膜沉積能力。系統(tǒng)通過智能程序化控制實(shí)現(xiàn)120-6000 RPM無極調(diào)速，適配從結(jié)晶材料到超薄膜制備的多樣化實(shí)驗(yàn)需求。設(shè)備內(nèi)置水平校準(zhǔn)系統(tǒng)與免真空托盤，確保基材平整度與涂覆均勻性。 產(chǎn)品型號(hào)：L2001A 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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Table Top加拿大進(jìn)口Plasmionique離子濺射鍍膜儀 簡(jiǎn)單介紹：加拿大進(jìn)口Plasmionique離子濺射鍍膜儀，多功能薄膜沉積系統(tǒng)，搭載Plasmionique公司研發(fā)的濺射陰極技術(shù)，專為實(shí)現(xiàn)高靶材利用率而設(shè)計(jì)，支持平衡與非平衡磁控配置，并提供圓形或矩形靶材適配方案。 產(chǎn)品型號(hào)：Table Top 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD 簡(jiǎn)單介紹：Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD，加拿大進(jìn)口桌面式設(shè)備，可支持MWPlasma微波等離子體和MWPECVD微波等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。 產(chǎn)品型號(hào)：Table Top 4 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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Table Top 2Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜 簡(jiǎn)單介紹：Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜 ，加拿大進(jìn)口桌面式設(shè)備，可支持EBeam電子束蒸發(fā)和Thermal Evaporation熱蒸發(fā) 產(chǎn)品型號(hào)：Table Top 2 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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Table Top 3Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE 簡(jiǎn)單介紹：Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE ，加拿大進(jìn)口桌面式設(shè)備，模塊化設(shè)計(jì)，可支持ALD原子層沉積，CVD化學(xué)氣相沉積，PECVD??等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積和RIE??反應(yīng)離子刻蝕。 產(chǎn)品型號(hào)：Table Top 3 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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HL 200德國(guó)進(jìn)口OEG接觸角測(cè)量?jī)x 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)進(jìn)口OEG接觸角測(cè)量?jī)xSURFTENS 200是專為半導(dǎo)體研發(fā)的接觸角測(cè)量系統(tǒng)，以±0.1°精度、0.2μl液滴控制及360°晶圓掃描能力，1秒內(nèi)分析表面潤(rùn)濕性。緊湊設(shè)計(jì)集成高精度光學(xué)系統(tǒng)，支持自動(dòng)/手動(dòng)滴液模式，適配200mm晶圓真空無損檢測(cè)，精準(zhǔn)優(yōu)化光刻膠附著力與表面能。 產(chǎn)品型號(hào)：HL 200 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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SURFTENS 200德國(guó)進(jìn)口OEG接觸角測(cè)量?jī)x 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)進(jìn)口OEG接觸角測(cè)量?jī)x SURFTENS 200是專為半導(dǎo)體研發(fā)的接觸角測(cè)量系統(tǒng)，以±0.1°精度、0.2μl液滴控制及360°晶圓掃描能力，1秒內(nèi)分析表面潤(rùn)濕性。緊湊設(shè)計(jì)集成高精度光學(xué)系統(tǒng)，支持自動(dòng)/手動(dòng)滴液模式，適配200mm晶圓真空無損檢測(cè)，精準(zhǔn)優(yōu)化光刻膠附著力與表面能。 產(chǎn)品型號(hào)：SURFTENS 200 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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SURFTENS HL 200德國(guó)進(jìn)口接觸角測(cè)量?jī)x 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)進(jìn)口接觸角測(cè)量?jī)xSURFTENSHL 200 是一款專為半導(dǎo)體行業(yè)及研究設(shè)計(jì)的接觸角測(cè)量系統(tǒng)，專注于硅晶圓表面處理工藝控制。它能高效、精確地測(cè)量晶圓的潤(rùn)濕性和接觸角，幫助優(yōu)化光刻工藝，提高光刻膠附著力，減少缺陷密度。系統(tǒng)具備緊湊結(jié)構(gòu)、高精度光學(xué)元件、可調(diào)LED照明及多種滴液系統(tǒng)配置選項(xiàng)，支持手動(dòng)與自動(dòng)測(cè)量模式，提供高重復(fù)性與便捷操作，是提升半導(dǎo)體制造工藝可靠性的理想工具。 產(chǎn)品型號(hào)：SURFTENS HL 200 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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RTP800V國(guó)產(chǎn)立式快速退火爐 8寸真空 簡(jiǎn)單介紹：國(guó)產(chǎn)立式快速退火爐 8寸真空，RTP800V，使用多溫區(qū)控溫，可通過APP界面調(diào)節(jié)溫度均勻性。優(yōu)秀的光源冷卻系統(tǒng)確保光源壽命達(dá)到國(guó)際水平。科學(xué)的波長(zhǎng)分布保證半導(dǎo)體材料可有效吸收。 產(chǎn)品型號(hào)：RTP800V 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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RTP500SV國(guó)產(chǎn)小型桌面式快速退火爐 4寸真空 簡(jiǎn)單介紹：國(guó)產(chǎn)小型桌面式快速退火爐 4寸真空，RTP500SV，使用多溫區(qū)控溫，可通過APP界面調(diào)節(jié)溫度均勻性。優(yōu)秀的光源冷卻系統(tǒng)確保光源壽命達(dá)到國(guó)際水平。科學(xué)的波長(zhǎng)分布保證半導(dǎo)體材料可有效吸收。 產(chǎn)品型號(hào)：RTP500SV 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-06-06 |
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