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邁可諾技術有限公司
主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |

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產品圖片 | 產品名稱 | |||
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SPS-HP系列MicroXact高精度半自動化探針臺 簡單介紹:SPS 2600-HP,SPS 2800-HP和SPS 12000-HP系列系統是MicroXact的半自動探針臺,設計靈活,易于使用,可用于高效設備表征,晶圓級可靠性測試和故障分析。這些半自動探針臺系統設計用于支持多200mm晶圓的手動和半自動探測。 產品型號:SPS-HP系列 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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SPS系列MicroXact標準半自動探針臺 簡單介紹:MicroXact的半自動探針臺提供多種選擇,包括加熱/冷卻晶圓卡盤,標準或數字顯微鏡以及可編程平臺分度,為您的所有高效設備表征提供經濟高效且易于使用的解決方案。晶圓級可靠性測試需求。這些半自動探針臺有三種選擇(標準,高精度和高速)。 產品型號:SPS系列 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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LCS-4000系列MicroXact分析探針臺配有激光切割系統 簡單介紹:LCS-4000系列分析探針臺配有激光切割系統 帶有集成激光切割系統的LCS-4000探針臺為用戶提供了半導體診斷切割,失效分析,修整,標記和頂層去除的大靈活性。所有這些功能都可以在微觀層面上進行,所有這些都在這一系統上進行,這提供了非常易于使用的高水平性能。 產品型號:LCS-4000系列 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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A4P系列A4P四點探針自動電阻率測繪系統 簡單介紹:A4P四點探針自動電阻率測繪系統 A4P系列晶圓電阻率映射器使用經過驗證的行業標準,可以快速,準確,可靠地測量樣品電阻率分布。MicroXact的四點探針通過使電流通過四點探頭的外部點并測量內部點的電壓來測量半導體晶圓層的平均電阻。然后可以通過將薄層電阻乘以薄膜的厚度來找到電阻率的值,即賦予其電阻的材料的性質。 產品型號:A4P系列 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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Model 200-6JFP 引線鍵合機200 簡單介紹:JFP 引線鍵合機200-6適用于在6英寸晶圓上分割元件。功能強大的,無振動,操作簡單,無需過多培訓即可使用。包括數字十字準線的視頻集進行垂直定向; LCD屏幕可顯示參數,可通過編程輪進行選擇。 產品型號:Model 200-6 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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S100JFP鍵合機100Model 簡單介紹:JFP鍵合機100Model適用于3英寸晶圓的劃片 劃片機 100是一款*的設備,設計用于劃分精密模具,例如GaAs和硅芯片。劃片機 100非常靈活,使用劃線和斷裂順序,使成品模具保持清潔,不受損壞。 在斷開模式期間,當線性刀升高以沿著芯線斷裂時,劃片機 100使用聚酯薄膜來保持模具。薄膜可防止模具受到污染或壓力。所有參數均由控制鍵盤設定,設備堅固耐用,無振動,操作簡單,無需過多培訓。 產品型號:S100 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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MPS MiniMPS 環氧樹脂鍵合機 簡單介紹:MPS 環氧樹脂鍵合機 小芯片和SMD零件組裝 MPS 是實現準確揀選和放置的精密設備。 刀架設計,搖頭,為膠合提供了一個簡單的解決方案...... 視頻接口兼容Ultra-HD相機,可調節數字放大倍率,靈活性大,小尺寸和大尺寸芯片都適用。 真正的垂直運動實現了高精度放置和真正的垂直相機定位。 側面攝像頭,提供過程錄像;攝像頭可以任意角度傾斜; 高倍率變焦功能,適用于非常小的設備或關鍵過 產品型號:MPS Mini 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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CNI v3.0-200臺式納米壓印機 簡單介紹:桌面納米壓印機,易于復制微米和納米級結構。 納米壓印(熱和紫外線) 直徑高達210mm圓形模板,帶紫外線 150 * 150mm方片模板,采用熱處理工藝 熱壓印 操作簡單直觀 用途廣泛 即插即用 專為研發而設計 產品型號:CNI v3.0-200 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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WB200JFP引線鍵合機 簡單介紹:WB-200系列JFP引線鍵合機作為多功能半自動焊線工具,用于研發,標準和小批量生產。 WB-200提供全手動Z向控制,用于標準設計或簡單維修,無需機械設置; 臺式,尺寸小巧; 所有配置:平面基板,堅固包裝; 強大的視頻/聚焦功能,兼容小鍵合圖案和多鍵高度應用; 軟件訪問不受限制; 這是新一代JFP焊線機,具有增強的功能,是堅固可靠的機械設備。 產品型號:WB200 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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CNI v3.0-100納米壓印機 簡單介紹:CNI v3.0-100是一種非常靈活的納米壓印機。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統可根據特定需求輕松配置,體積小,容易存放,大可處理210mm(8英寸)圓形的任何尺寸印章和基材。該系統是手動裝卸印章和模板,但所有處理器都是全自動的,軟件用戶可以*控制壓印過程。 產品型號:CNI v3.0-100 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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PL600NIL納米壓印機 簡單介紹:EZI UV NIL納米壓印機 EZI 紫外曝光納米壓印系統 EZ Imprinting推出了一款臺式獨立納米壓印系統:PL系列400/600. EZImprinting是一種超高產率( 99%)納米壓印光刻系統,帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。 產品型號:PL600 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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PL400紫外納米壓印機 簡單介紹:EZ Imprinting推出了一款臺式獨立NIL納米壓印PL系列系統:PL系列400/600. EZImprinting是一種超高產率( 99%)納米壓印光刻系統,帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。 該平臺提供具有微定位夾具的機械平臺,用于安裝納米壓印室,UV固化源和對準顯微鏡。 它即可以作為納米壓印系統,也可以作為傳統的掩模對準器,同時提供可編程的自動控制功能。 產品型號:PL400 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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FR-Scanner掃描型薄膜在線測厚儀 簡單介紹:品牌:希臘ThetaMetrisis 名詞:膜厚儀 膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀 干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關的其他物理量。 產品型號:FR-Scanner 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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FR-pRo基礎型膜厚儀(紫外/近紅外-高分辨率) 簡單介紹:品牌:希臘ThetaMetrisis 名詞:膜厚儀 膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀 干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關的其他物理量。 產品型號:FR-pRo 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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FR-portable便攜式光學膜厚儀 簡單介紹:品牌:希臘ThetaMetrisis 名詞:膜厚儀 膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀 干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關的其他物理量。 產品型號:FR-portable 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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FR-uProbe微米級光學薄膜測厚儀 簡單介紹:品牌:希臘ThetaMetrisis 名詞:膜厚儀 膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀 干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關的其他物理量。測量精度決定于測量光程差的精 產品型號:FR-uProbe 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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Colibri大氣壓等離子表面處理儀 簡單介紹:Colibr大氣壓等離子表面處理儀,專為表面清潔,改性和活化而設計。 它可以在不同的材料上運行,如金屬,塑料,陶瓷,紙張等。 用戶友好的控制界面使Colibrì成為小型生產或研發環境的簡單通用解決方案。 產品型號:Colibri 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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Heron80Heron80全自動化等離子清洗系統 簡單介紹:Heron80系列全自動化等離子表面處理系統應用于小型生產以及研發實驗室使用。Heron 80是一款獨立式等離子系統,專為表面清潔,改性,活化和蝕刻而設計。它可以在不同的材料上運行,如金屬,塑料,陶瓷,紙張等。用戶友好的圖形界面與高效的射頻系統相結合,使Heron 80成為小型生產或研發環境的簡單通用解決方案。 產品型號:Heron80 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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GEMStar XT臺式原子層沉積系統 簡單介紹:產品特點 美國ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列臺式 ALD系統,在小巧的機身(78 x56 x28 cm)中集成了原子層沉積所需的所有功能,可zui 多容納9片8英寸基片同時沉積。GEMStar XT全系配備熱壁,結合前驅體瓶加熱,管路加熱,橫向噴頭等設計,使溫度均勻性高達99.9%,氣流對溫度影響減少到0.03% 以下。高溫度穩定度的設計不僅實現在8英寸基體上實現膜厚的不均勻性 產品型號:GEMStar XT 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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PlasmaDyne Pro 1000SPlasmaDyne Pro 1000S大氣等離子體處理系統 簡單介紹:PlasmaDyne Pro 1000s Treating System 大氣等離子體處理系統 采用大氣等離子技術處理各種表面,如塑料,橡膠,玻璃,金屬,紙板和復合材料。大氣等離子體清洗去除雜質及表面有機污染物并改變基質分子結構,重新構造表面的化學性質,從而在基材與粘合劑,涂料,層壓材料,涂料和油墨之間形成強大的粘合,提高表面能量。 產品型號:PlasmaDyne Pro 1000S 所在地:北京市 更新時間:2025-06-05 |
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