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2020
10-13膜厚測(cè)量?jī)x核心優(yōu)勢(shì)、技術(shù)解析與快速安裝一站式指南
在精密制造、半導(dǎo)體、汽車涂裝等工業(yè)領(lǐng)域，膜層厚度的精準(zhǔn)控制是決定產(chǎn)品質(zhì)量的核心要素之一。膜厚測(cè)量?jī)x作為現(xiàn)代工業(yè)檢測(cè)的“火眼金睛”，憑借其高精度、高效率與智能化特性，已成為生產(chǎn)線上不可少的關(guān)鍵設(shè)備。本文...2020
10-092020
09-29Thetametrisis膜厚儀的優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在哪里
Thetametrisis膜厚儀是一款快速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案，要求的光斑尺寸小到幾個(gè)微米，如微圖案表面，粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺(tái)計(jì)算機(jī)控制的XY工作臺(tái)，使其快速、方便...2020
09-27單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)的相關(guān)知識(shí)普及
單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對(duì)準(zhǔn)方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加...2020
09-25Subnano3D干涉輪廓儀不得不說(shuō)的優(yōu)點(diǎn)
Subnano3D干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面...2020
09-21Herz TS主動(dòng)隔振臺(tái)的特點(diǎn)有哪些？
HerzTS主動(dòng)隔振臺(tái)介紹：在21世紀(jì)納米技術(shù)(即先進(jìn)的半導(dǎo)體代表相關(guān)的信息技術(shù)，基因療法等生命科學(xué)相關(guān)技術(shù)，原子或分子處理如MEMS和工程技術(shù)等新材料生產(chǎn))，振動(dòng)、噪聲、電磁領(lǐng)域、熱、濕度、干擾等是...請(qǐng)輸入賬號(hào)
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