日本 SENVEC 液體用巽物除去裝置 UDLS-1-1EE 介紹

一、產品概述

二、產品特點

（一）高精度過濾

• 過濾精度：UDLS-1-1EE 采用先進的過濾技術，能夠有效去除液體中的微小顆粒，過濾精度可達亞微米級別。這對于半導體制造等對水質要求極的高的行業至關重要，可以有效防止微小顆粒對芯片制造工藝的影響。
• 多級過濾系統：設備內部設計有多級過濾結構，通過不同孔徑的濾網或濾芯，逐步去除液體中的大顆粒和微小顆粒雜質，確保過濾效果的穩定性和可靠性。

（二）高效處理能力

• 大流量處理：UDLS-1-1EE 設計有大流量的處理通道，能夠滿足工業生產中大量液體的快速過濾需求。其處理能力可以根據不同的應用場景進行定制，確保在高流量下仍能保持穩定的過濾性能。
• 快速更換濾芯：設備采用了易于更換的濾芯設計，更換濾芯時無需復雜的操作，大大縮短了設備維護時間，提高了生產效率。同時，快速更換濾芯的設計也降低了因濾芯更換不及時而導致的液體污染風險。

（三）智能控制系統

• 自動化控制：配備先進的自動化控制系統，能夠實時監測液體的過濾狀態，包括流量、壓力、過濾精度等參數。系統可以根據預設的參數自動調整過濾過程，確保過濾效果始終處于最佳狀態。
• 遠程監控與診斷：通過網絡連接，操作人員可以在遠程終端上實時監控設備的運行狀態，并進行遠程診斷和故障排除。這不僅提高了設備的管理效率，還減少了因設備故障導致的生產中斷風險。

（四）可靠性與耐用性

• 高品質材料：UDLS-1-1EE 的主要部件采用高品質的不銹鋼等耐腐蝕材料制造，具有良好的耐化學腐蝕性和機械強度。這使得設備能夠在各種惡劣的工業環境下長期穩定運行，減少了設備的維護成本。
• 緊湊設計：設備采用緊湊的設計理念，占地面積小，安裝方便。其緊湊的結構不僅節省了空間，還便于與其他生產設備集成，提高了整個生產系統的布局靈活性。

三、應用領域

（一）電子與半導體行業

（二）醫藥行業

（三）食品行業

四、技術規格

（一）過濾精度

• 最小過濾精度：0.1μm
• 最大過濾精度：5μm（可根據需求定制）

（二）處理流量

• 最大處理流量：100L/min（可根據需求定制）

（三）工作壓力

• 最大工作壓力：1.0MPa

（四）工作溫度

• 工作溫度范圍：5℃ - 60℃

（五）電源要求

• 電源電壓：220V/50Hz
• 功率消耗：1.5kW

五、安裝與維護

（一）安裝

• 安裝位置：應選擇在通風良好、無腐蝕性氣體、無強磁場干擾的環境中。設備應安裝在水平的地面上，確保設備運行時的穩定性。
• 管道連接：設備的進液口和出液口應與液體輸送管道正確連接，確保液體能夠順暢地進入和流出設備。在連接管道時，應注意管道的密封性，防止液體泄漏。
• 電氣連接：按照設備的電氣接線圖進行接線，確保電源連接正確無誤。在接線過程中，應遵循相關的電氣安全規范，確保設備的電氣安全。

（二）維護

• 定期更換濾芯：根據液體的污染程度和設備的運行時間，定期更換濾芯。一般建議每 3 - 6 個月更換一次濾芯，以確保過濾效果的穩定性和可靠性。
• 清潔設備：定期對設備的外殼和內部進行清潔，去除灰塵和污垢。清潔時，應使用柔軟的布料和中性清潔劑，避免使用腐蝕性清潔劑對設備造成損壞。
• 檢查密封件：定期檢查設備的密封件，如密封圈、密封墊等，確保其密封性能良好。如果發現密封件有老化、損壞等情況，應及時更換，防止液體泄漏。
• 系統檢查：定期對整個過濾系統進行檢查，包括管道、閥門、控制系統等部件，確保系統的正常運行。檢查時，應特別注意管道的連接是否牢固，閥門的開關是否靈活，控制系統的參數設置是否正確等。

六、案例分析

七、總結