愛發科（ULVAC）真空泵憑借其多樣化技術路線（干式/油式）和優秀的穩定性，廣泛應用于以下核心領域：

 ?一、半導體與制造?

1. ?芯片制造關鍵工藝?

• 用于刻蝕、離子注入、薄膜沉積等環節，提供高潔凈真空環境（干式泵避免油污染晶圓）。

• 濺射設備中維持10?3 Pa真空度，保障金屬鍍層均勻性（如GLD系列油旋片泵）。

2. ?顯示面板與光學鍍膜?

• 液晶面板生產的真空貼合工藝，確保無氣泡缺陷。

• 光學鏡片鍍膜時提供穩定真空，提升薄膜附著力（DAP-6D隔膜泵適用小型設備）。

 ?二、能源與化工?

1. ?新能源電池生產?

• 電極材料干燥工序中創造無油真空，防止電解液污染。

• 太陽能電池硅片鍍膜設備的真空系統。

2. ?化工流程強化?

• 真空蒸餾、分子蒸餾工藝的核心動力源（耐腐蝕型號處理酸性氣體）。

• 腐蝕性氣體回收（如DAT-100S干泵耐受HF、Cl?）。

 ?三、通用工業場景?

 ?核心性能優勢?

• ?高潔凈度?：干式泵（如DAT系列）有效杜絕油蒸氣反流，滿足半導體級潔凈要求。

• ?強適應性?：

• 油旋片泵（VDN301）支持高粉塵、水蒸氣環境。

• 特殊涂層泵體耐腐蝕性提升3倍以上。

• ?低維護設計?：無彈簧旋片結構（如VSN2401）避免停泵故障，壽命延長40%。

注：油式泵需定期更換密封件和潤滑油，建議按廠商指南維護。