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hydac壓力傳感器ENS3216型使用要求
點擊次數：477 發布時間：2018-2-1
賀德克hydac壓力傳感器包括了兩個電容：一個是用于測量的測量電容Cx，另一個是用于溫度補償的參考電容Co。賀德克hydac壓力傳感器當膜片（上電極）受到壓力p 作用時發生變形，隨著壓力的增大膜片與襯底的距離逐漸縮小，賀德克hydac壓力傳感器在壓力達到接觸點壓力（即膜片中心接觸到絕緣層時的壓力）之前，測量電容器的電容值由非接觸電A片決定。賀德克hydac壓力傳感器半導體在承受壓力時禁帶寬度發生變化，導致載流子濃度和遷移率變化。這樣引起的電阻變化比金屬絲受壓時截面積減小引起的電阻變化要大兩個數量級,因此半導體壓力傳感器具有高靈敏度。將 P型半導體與 N型半導體組合使用還可制成靈敏度更高的壓力傳感器。特別是傳感器的制造工藝與半導體集成電路平面工藝兼容, 這就滿足了賀德克hydac壓力傳感器向智能化方向發展的要求。與壓阻式壓力傳感器相比, 電容式壓力傳感器具有低溫漂、高靈敏度、低噪聲和較大的動態范圍等顯著的優點。
賀德克hydac壓力傳感器是目前*可在基底上制作亞微米精度圖形的技術。在微系統制造中，光刻主要用來做掩模版、體硅工藝的空腔腐蝕、表面工藝中的犧牲層薄膜的成績和腐蝕以及傳感器和致動器觸及電信號電路的圖形化處理。它指在需要的地方通過物理或化學的方法對原有材料的去除，常被用于形成MEMS 和微系統中為器件的幾何形狀。賀德克hydac壓力傳感器兩種常用的腐蝕技術為濕法腐蝕和干法腐蝕。濕法腐蝕是指用稀釋的化學溶液來腐蝕基底，是將要腐蝕的基底置入具有確定化學成分和固定溫度的腐蝕液體里進行的腐蝕。腐蝕的速率取決于基底上被腐蝕的材料和溶液中化學反應物的濃度，以及溶液的溫度。賀德克hydac壓力傳感器干法腐蝕是利用氣體的腐蝕性，而不是利用化學藥劑和清洗法來去除基地材料。賀德克hydac壓力傳感器干法腐蝕有三種實用技術：等離子刻蝕、離子 研磨以及反應離子刻蝕法。
賀德克hydac壓力傳感器由工件幾何形狀決定了加工的工藝流程，而工藝是制約微機電系統器件能否達到設計要求的關鍵。還可以通過改善敏感元件、電容器的物理特性，改變傳感器的尺寸，進一步提高傳感器的工作范圍、靈敏度等。通過測量材料應力來測量壓力大小，它具有體積小、全動態測量范圍的高線性度、較高的靈敏度、相對較小的滯后和蠕變的特點，賀德克hydac壓力傳感器多采用惠斯通電橋來消除溫度影響；通過測量電容變化來測量壓力大小，相比較壓阻式的傳感器，它具有很高的靈敏度、低溫度敏感系數、沒有滯后、更高的長期穩定性，但同時它也有更高的非線性度、更大的體積，賀德克hydac壓力傳感器需要更復雜的檢測電路和更高的生產成本； 通過測量頻率或頻率的微分變化來測量壓力大小，它可以通過諸如熱、電磁和靜電效應來改變膜片頻率，并且可以通過真空封裝來提高傳感器精度；形成了包括各種微電子、微機械、微光學及各種數據處理單元的微系統，賀德克hydac壓力傳感器其中以集成電路加工技術為基礎的硅基微加工技術發展迅速。
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