由于許多重要的待測元素在使用電感耦合等離子體 質譜儀（ICP-MS）分析時會受到等離子產生的分子 和同質異位素的干擾（如：ArO+，ArH+，和Ar+）， 因此對許多重要的待測元素的分析都很困難，這進 一步增加了分析硅雜質的難度和復雜性。通過向通 用池中通入適當的低流量反應氣和使用*的動態 帶通調諧（DBT）的功能，就能夠在離子束進入四 級桿質譜前用化學方法將干擾去除，而這兩個功能 都是PerkinElmer公司的NexION® 300 ICP-MS所兼具 的。
NexION 300 ICP-MS的另一個優點是能夠一直在 強勁的高溫等離子體狀況下運行，從而有效分解樣品 基質。此外，NexION 300 ICP-MS能夠在一次分析運 行中，同時包括使用反應模式（使用反應氣）分析和 使用標準模式（不使用反應氣）分析的元素，這就不 需要分析兩次樣品或使用兩種不同的等離子條件。儀 器的軟件可以將兩種模式（反應模式和標準模式）得 到的結果合并，并在一份報告中打印出來。
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