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安捷倫科技(中國)有限公司

安捷倫 Cary UV-Vis-NIR 展現優勢性能,助力亞納米級窄帶濾光片精準表征

時間:2025-4-15 閱讀:269
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窄帶濾光片是精密光學系統的關鍵元件,可通過選擇性透過特定波長來實現光譜純化、波長隔離等功能,在光譜分析中扮演著關鍵角色。傳統窄帶濾光片的半高寬 (FWHM) 通常在 10nm 左右,而亞納米級 (< 1nm) 濾光片的表征對測量儀器的性能提出了極高要求。

 

面對嚴苛要求帶來的技術挑戰,安捷倫 Cary UV-Vis-NIR 分光光度計憑借超高的光譜分辨率脫穎而出,能夠精準實現低至 0.12nm FWHM 濾光片的光譜特性表征,滿足應用需求。與此同時,其具備智能化的 S/N 控制功能,可以動態調節掃描速度和光譜信噪比,使得光譜質量和測試效率均得到有效提升。

 

圖片

圖 1. SBW 對濾光片的影響

窄帶濾光片測試條件:

 

儀器配置:

Agilent Cary 5000/6000i UV-Vis-NIR

光路設置:

樣品光路 2 個 1mm 光闌(樣品前后各 50mm)

參考光路 2 個 5mm 光闌(配有 1.1 Abs 的后光路衰減器)

關鍵參數:

光譜帶寬 (SBW) ≤ 0.040nm

雙光束模式 + 獨立控制標簽激活

信號平均時間 ≥ 5 秒(信噪比優化)

圖片
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圖 2. 窄帶濾光片的光譜圖

 

image.png


安捷倫 Cary UV-Vis-NIR 具有優異的硬件系統設計,可將 SBW 設置低至 0.040nm 以滿足亞納米級分辨率的測試需求。同時,通過光闌和溫度控制,可以有效減少波長漂移,采用智能的信噪比控制功能還可靈活優化掃描時間,提升效率。綜上可見,安捷倫 Cary UV-Vis-NIR 顯然是表征窄帶濾光片的理想工具,為科研與工業應用提供了可靠的數據支持!


 

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