化工儀器網
技術文章
fujikoshiSiC晶圓高速拋光技術開發
閱讀：731 發布時間：2024-5-21fujikoshiSiC晶圓高速拋光技術開發
不二越機械與日本產業技術綜合研究所和瑞穗株式會社合作，開發了一種可高速平坦化 SiC 晶圓的包裹技術。特別是，在過去速度較慢的鏡面拋光工藝中，我們實現了比傳統方法快12倍的拋光速度，并建立了可與板材加工的鏡面拋光工藝相媲美的新型批量式加工技術。
該技術是在本公司的高速旋轉研磨裝置“SLM-140H"上使用瑞穗株式會社的高速旋轉對應砂輪平臺“SHINE LAP PLATE Type HS"的固定磨料研磨技術。與使用漿料的傳統拋光不同，拋光可以僅使用水作為加工液進行，從而減少了對環境的影響。它還可以抑制高速拋光中因離心力和摩擦熱導致的溫度升高而導致的漿料飛散。在SiC晶圓的量產過程中，可以實現高速化和低成本化。
我們目前正在開發用于批量生產的高速旋轉拋光設備。
拋光設備介紹
研發高速旋轉拋光裝置SLM-140H
支持難加工材料的高速拋光！
設備概覽
●支持平臺轉速最高1000[rpm]。
●支持藍寶石、SiC、GaN等各種材料的研磨到拋光加工。
●拋光方式為1盤1頭（最大4英寸）。
●配備監測拋光過程中摩擦系數的功能。
●配備各種傳感器的數據記錄功能。
●配備防漿料飛散蓋。