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光學膜厚儀OMD-1000的運用范圍

閱讀:1390          發布時間:2021-5-25

光學膜厚儀OMD-1000的運用范圍

典型應用領域

半導體制造業,光刻膠、氧化物、硅或其他半導體膜層的厚度測量。

生物醫學原件:聚合物/聚對二甲苯;生物膜/球囊壁厚度;植入藥物涂層。

微電子:光刻膠;硅膜;氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡                       

液晶顯示器:盒厚;聚酰亞胺;導電透明膜

由于是光學測量,在測量時候無須擔心破壞樣品,讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數,通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析,幾秒鐘內就可測量結果。

 

這是一種光譜膜厚監測儀,可監測在氣相沉積過程中用單色光在基板上產生的光量變化。它也用在我們自己的薄膜沉積設備中,并作為膜厚監測設備完成,該設備具有氣相沉積零件制造商的專業知識。

全波長范圍

在傳統型號中,波長選擇是濾光片類型,但是新產品采用了我們公司具有良好記錄的分光鏡,現在可以選擇任何波長。
膜厚變化的信號是從電壓輸出到與個人計算機兼容的數字輸出,控制機構是從手動操作到個人計算機的命令控制。另外,通過將薄膜厚度計主體通過I / F直接連接到個人計算機來控制其厚度成為可能,這是一個非常緊湊的系統,無需像其他制造商那樣的控制器。

特征

  • 分光鏡設計緊湊
  • 通過提高抗噪聲性(靜電放電測試耐電壓±5 kV)實現高度可靠的膜厚監控
  • 可以通過PC上的命令自動控制
  • 通過將控制器整合到接收器主體中來實現高性價比

產品規格

模型OMD-1000
光譜儀類型切爾尼·特納(Czerny Turner)類型單單色
波長范圍保證范圍:380至900 nm可操作
范圍:350至1100 nm
波長分辨率狹縫0.5mm:4.2nm [546nm]
狹縫1.0mm:8.3nm [546nm]
波長精度±1.0納米
最小波長進給0.1納米
外部控制RS232C
外部輸出端子DC0-2V(滿量程)
采樣間隔100ms以上
靜電放電試驗耐電壓±5kV(實際8kV)
光源12V100W鹵素燈
光強度穩定性±0.1%/ h以下
輸入電壓AC100V 50/60赫茲
允許輸入電壓AC85-132V
視在功率340VA以下
使用環境溫度10-35℃
濕度20-80%

 

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