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詳細摘要：YS4560高精度分光測色儀采用符合CIE 5的45/0（45度環形照明，0度接收）幾何光學結構，采用凹面光柵分光方式，可精確測量樣品反射率及各種色度數據。儀器配備Φ8、Φ4mm雙測量口徑,用于交通路標、塑膠電子、油漆油墨、紡織服裝印染、印刷、陶瓷等行業精

詳細摘要：Novocontrol concept 40寬頻介電阻抗譜儀不僅是在實驗室開發和研究新材料的重要測量手段，并且在生產質量控制和優化上也是強有力的工具。可以應用于化學、物理化學、電化學、電子、電工工程、材料科學、生物學和制藥等領域，尤其包括聚合物、樹脂、陶瓷、橡膠

詳細摘要：愛色麗X-Rite Ci64UV便攜式分光測色儀是一個完整的、以性能為導向的色彩管理解決方案，涂料、塑料、汽車、紡織品、家居等行業，為終端用戶的質量保證、質量控制和工藝控制操作提供了*的方案。

詳細摘要：愛色麗X-Rite Ci64便攜式分光測色儀是一個完整的、以性能為導向的色彩管理解決方案，涂料、塑料、汽車、紡織品、家居等行業，為終端用戶的質量保證、質量控制和工藝控制操作提供了*的方案。

詳細摘要：德國特強TECHKON SpectroPlate全功能印版測量儀能夠精確讀取任何的加網尺寸和加網技術：調頻網，調幅網或者混合加網。白色照明光譜和動態色彩評估使得設備能夠讀取所有類型的印版和表面涂層。

詳細摘要：德國特強TECHKON SpectroPlate專業版印版測量儀能夠精確讀取任何的加網尺寸和加網技術：調頻網，調幅網或者混合加網。白色照明光譜和動態色彩評估使得設備能夠讀取所有類型的印版和表面涂層。

詳細摘要：德國特強TECHKON SpectroPlate入門版印版測量儀能夠精確讀取任何的加網尺寸和加網技術：調頻網，調幅網或者混合加網。白色照明光譜和動態色彩評估使得設備能夠讀取所有類型的印版和表面涂層。

詳細摘要：特強TECHKON SpectroDens旗艦版分光密度儀是一款多用途顏色測量儀器，既可以實現印刷品的單點顏色測量，也可以掃描式測量印刷的測控條。吃外，相比于其他競爭對手的產品，SpectroDens NEW沒有任何活動的部件，因為避免長期使用而損壞。

詳細摘要：硼硅玻璃標準核磁管NMR Tube有直徑為3毫米和5毫米，長度178毫米，即7英寸和203毫米，即8英寸常用規格，這些管子由高質量的硼硅酸鹽玻璃3.3制成，帶有精細的火焰拋光邊緣和透鏡形底部。其標準公差符合通常的數值。

詳細摘要：Mark-tube樣品填充用毛細管針頭用于向Mark管中填充液體樣本。最細的針頭直徑小于0.1毫米，這意味著即使是極細的Mark管也能輕松填充。
針頭可以通過標準的魯爾（Luer）連接器連接到標準的一次性注射器或微量注射器上。我們使用硼硅酸鹽玻璃3.3制造填充針

詳細摘要：TIR 100-2紅外熱發射率測定儀應用范圍廣泛,可在數秒鐘內快速確測定物體表面熱發射率，實為測量發射率進行有效質量控制的理想設備。

詳細摘要：Honle UV-Meter紫外線照度計采用經過優化的傳感器，測量可追溯至德國標準 PTB 的精確數據?？筛采w波長從 230 nm 到 550nm-UVC、UVB、UVA 和 VIS，專用 LED 傳感器。

詳細摘要：Evap-4 Power Supply電子束蒸發電壓控制器用于電子束蒸發器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發能力。迷你電子束蒸發器能夠在沉積常見工藝金屬（如金、銀和鉻）時提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對基底和周圍環境的熱負荷極小。

詳細摘要：Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發器是一種用于高精度薄膜沉積的edge-cutting工具。它適用于研究和生產環境，這種緊湊的系統利用電子束直接加熱坩堝中的蒸發物，能夠以的控制力沉積金屬。與傳統的熱蒸發方法相比，Mini E-Beam Evaporator具有更高的效率，

詳細摘要：NanoSystem NVM-6000P非接觸式3D表面測量系統用于PCB基板表面形貌的測量。 基板上的Via Hole，Pad形狀，pattern形貌和表面形貌等11個項目可以進行自動測量。 在高速測量下仍具有優秀的重復性和準確性，支持用戶設定測量條件和測量數據自動保存及分析功能。

詳細摘要：Gamma Scientific GS-1290 NVIS分光輻射度計是一款高速光譜輻射計，它將背面薄型CCD探測器靈敏度前沿技術與Gamma Scientific業界的RadOMA光電平臺相結合。

詳細摘要：Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒，以在樣品上創建功能化表面。 可以通過精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結構來定制納米顆粒涂層的特性，從而實現定制化特性。

詳細摘要：Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上。可以調整膜的密度，并且涂層能夠很好地附著在樣品表面。 NL-UHV有多種配置可供選擇，包括單個1英寸和2英寸源，以及三重1英寸源NL-DX3，后者允許單獨或作為合金沉積多達

詳細摘要：NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統能夠實時監測納米顆粒的尺寸分布，通過質量過濾器按質量或直徑實時掃描或過濾沉積的納米顆粒，從而促進生長條件的優化。

詳細摘要：Nikalyte NL-50磁控濺射儀專為研究納米粒子特性的研究人員設計，使用方便，結構緊湊。利用磁控濺射技術在真空中從固體源材料生成一束超純納米粒子，整個過程不使用任何化學品或表面活性劑