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[供應]GDW5-動態TCU控溫制冷加熱循環一體機

貨物所在地:上海上海市

產地:中國

更新時間:2025-05-10 21:00:08

有效期:2025年5月10日 -- 2025年11月10日

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動態TCU控溫制冷加熱循環一體機
適用于化學合成工藝過程的溫控控制。 適用于小試及中試系統。適用于高壓、常壓、負壓反應釜 玻璃 搪瓷 金屬 。 適用于微通道反應器、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試。 適用于組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。 適用于電池生命周期的性能測試、材料環境模擬測試等。

動態TCU控溫制冷加熱循環一體機


動態恒溫 TCU 具有**設計的熱力學特性、在不改變導熱流體的情況下提供零下溫度至高溫溫控輸出范圍。

與此同時確定在功率允許的前提下最短的升降溫時間,提供準確和可重復的升降溫控溫曲線


適用于化學合成工藝過程的溫控控制。 適用于小試及中試系統。適用于高壓、常壓、負壓反應釜 玻璃 搪瓷 金屬 。 適用于微通道反應器、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試。 適用于組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。 適用于電池生命周期的性能測試、材料環境模擬測試等。

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7寸/10寸大屏彩色觸摸屏

根據物料控溫 (控溫精度可達 0.1-0.5℃)

零下80到正上300 均使用一種循環液

針對夾套式反應容器或其他溫度控制嚴苛的應用要求設計

密閉板式換熱器快速的加熱或冷卻、用來快速補償放熱或吸熱反應

西門子PLC、斜率控溫、多段控溫、溫度歷史曲線輸出

進口制冷部件

施耐德電器部件

智能循環泵、滿足不同材質的夾套式容器的壓力要求

霍尼韋爾Solstice N40(R-448A) 替代R404A | GWP值相比R-404A降低68%  能效高出5% ~ 16%

應用案例(多類型,多流量可選)


動態TCU控溫制冷加熱循環一體機

詳細配置造型請下載附件PDF

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