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ASTRO96全自動(dòng)微波等離子清洗系統(tǒng)
ASTRO96全自動(dòng)微波等離子清洗系統(tǒng):Alpha等離子系統(tǒng)ASTRO96是一款低壓微波等離子系統(tǒng),用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進(jìn)芯片封裝清洗,以及倒裝芯片...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:56:54
對(duì)比
全自動(dòng)進(jìn)口微波去膠機(jī)自動(dòng)微波等離子去膠機(jī)全自動(dòng)干法清洗機(jī)生產(chǎn)用等離子清洗機(jī)量產(chǎn)型等離子灰化機(jī)
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AL76C立式微波等離子去膠清洗機(jī)
AL76C立式微波等離子去膠清洗機(jī):AL76C為一體式緊湊型等離子系統(tǒng),適用于批量生產(chǎn),也可以i滿足研發(fā)及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。并且,此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:55:01
對(duì)比
進(jìn)口微波去膠機(jī)干法去膠機(jī)生產(chǎn)用等離子去膠機(jī)生產(chǎn)用等離子去膠機(jī)微波等離子去膠機(jī)
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AL76微波等離子去膠清洗機(jī)
AL76微波等離子去膠清洗機(jī):AL76等離子系統(tǒng)適用于批量生產(chǎn),也可以i滿足研發(fā)及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。并且,此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要、工業(yè)、醫(yī)藥等領(lǐng)域。AL...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:52:42
對(duì)比
微波等離子去膠機(jī)臺(tái)式去膠機(jī)微波等離子清洗系統(tǒng)進(jìn)口去膠機(jī)德國(guó)去膠機(jī)
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AL18微波等離子去膠清洗機(jī)
AL18微波等離子去膠清洗機(jī):AL18等離子系統(tǒng)適用于小批量生產(chǎn)和研發(fā)的*設(shè)備。并且,此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統(tǒng)是一款創(chuàng)新型的通用設(shè)備,...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:50:41
對(duì)比
微波等離子去膠機(jī)臺(tái)式去膠機(jī)等離子清洗系統(tǒng)進(jìn)口去膠機(jī)
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NIE-3500(M)離子束清洗系統(tǒng)
NIE-3500(M)離子束清洗系統(tǒng):是一款手動(dòng)放片/取片,但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:48:45
對(duì)比
NIE 離子束清洗機(jī)進(jìn)口離子束干法清洗機(jī)Ion Beam清洗機(jī)進(jìn)口離子束清洗設(shè)備
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NIE-3500(A)全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)
NIE-3500(A)全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng):是一款自動(dòng)放片/取片,并且工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:46:53
對(duì)比
NIE 全自動(dòng)離子束清洗離子束干法清洗機(jī)Ion Beam清洗機(jī)進(jìn)口干法清洗系統(tǒng)
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NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)
NIE-3000離子束清洗系統(tǒng):是一款手動(dòng)放片/取片,但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:45:07
對(duì)比
NIE 離子束清洗機(jī)進(jìn)口離子束清洗設(shè)備離子束干法清洗
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NPD-4000(A)全自動(dòng)PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)
NPD-4000(A)全自動(dòng)PLD脈沖激光沉積系統(tǒng):脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導(dǎo)致靶物質(zhì)快速蒸發(fā)。蒸發(fā)的物質(zhì)由容易逃出與電離的核素...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:42:47
對(duì)比
全自動(dòng)PLD系統(tǒng)全自動(dòng)激光脈沖沉積
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NPD-4000(M)PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)
NPD-4000(M)PLD脈沖激光沉積系統(tǒng):脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導(dǎo)致靶物質(zhì)快速蒸發(fā)。蒸發(fā)的物質(zhì)由容易逃出與電離的核素組成。...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:40:28
對(duì)比
進(jìn)口PLD系統(tǒng)脈沖激光沉積系統(tǒng)進(jìn)口PLD價(jià)格脈沖激光燒蝕PLA激光蒸發(fā)鍍膜
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全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
NEE-4000(A)全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng):NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔配置,樣品臺(tái)位于主腔體,二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預(yù)真空鎖...
型號(hào): NEE-4000(...
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:38:28
對(duì)比
全自動(dòng)電子束蒸發(fā)臺(tái)進(jìn)口全自動(dòng)電子束系統(tǒng)全自動(dòng)E-Baeam系統(tǒng)
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NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng):NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置,樣品臺(tái)位于主腔體,二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩個(gè)腔體之間的門閥可以作為預(yù)真...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:36:37
對(duì)比
NEE-4000電子束蒸發(fā)臺(tái)進(jìn)口電子束蒸發(fā)鍍膜電子束蒸發(fā)鍍膜儀電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備E-Beam
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NTE-4000(A)全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-4000(A)全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng):全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:34:50
對(duì)比
NTE-4000全自動(dòng)熱蒸鍍進(jìn)口全自動(dòng)熱蒸鍍系統(tǒng)全自動(dòng)熱蒸發(fā)臺(tái)全自動(dòng)熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
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NTE-4000(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-4000(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:32:32
對(duì)比
NTE-4000熱蒸鍍進(jìn)口熱蒸鍍系統(tǒng)進(jìn)口熱蒸發(fā)臺(tái)進(jìn)口熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
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全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-3500(A)全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng):全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有...
型號(hào): NTE-3500(...
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:30:27
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NTE-3500全自動(dòng)熱蒸鍍進(jìn)口全自動(dòng)熱蒸鍍系統(tǒng)全自動(dòng)熱蒸發(fā)臺(tái)全自動(dòng)熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
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NTE-3500(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-3500(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:27:57
對(duì)比
NTE-3500熱蒸鍍進(jìn)口熱蒸鍍系統(tǒng)熱蒸發(fā)臺(tái)熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
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NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-3000是PC控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:25:56
對(duì)比
NTE-3000熱蒸鍍進(jìn)口熱蒸鍍系統(tǒng)熱蒸發(fā)臺(tái)熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
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NMC-4000(A)全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)
NMC-4000(A)全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng):針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:23:37
對(duì)比
進(jìn)口全自動(dòng)PAMOCVD進(jìn)口全自動(dòng)PEMOCVD全自動(dòng)等離子MOCVD
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NMC-4000(M) MOCVD設(shè)備
NMC-4000(M) MOCVD設(shè)備:NANO-MASTER針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:21:20
對(duì)比
進(jìn)口PAMOCVD進(jìn)口PEMOCVD等離子MOCVD金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉等離子輔助MOCVD
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NMC-3000等離子輔助MOCVD
NMC-3000等離子輔助MOCVD系統(tǒng):針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:19:46
對(duì)比
進(jìn)口PAMOCVD進(jìn)口PEMOCVD等離子MOCVD金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉等離子輔助MOCVD
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NLD-4000(ICPM)PEALD系統(tǒng)
NLD-4000(ICPM)PEALD系統(tǒng):ALD原子層沉積可以滿足準(zhǔn)確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體...
型號(hào):
所在地:國(guó)外
參考價(jià):
面議更新時(shí)間:2025/4/28 9:17:45
對(duì)比
ALD等離子ALDPlasma增強(qiáng)ALD進(jìn)口原子層沉積系統(tǒng)進(jìn)口PEALD系統(tǒng)