反應離子刻蝕設備（美國產，高性價比） 參考價：面議
反應離子刻蝕設備（美國產，高性價比）-聚合物或光阻的等溫各向同性干刻-硅片或玻璃表面清潔-硅表面氧化去除
等離子體去膠機（高性價比） 參考價：面議
等離子體去膠機（高性價比） Isotropic dry etching of polymer （photo resist） Cleaning of silico...
真空快速退火爐RTP-材料設備 參考價：面議
真空快速退火爐RTP-材料設備RTA（快速熱退火）； RTO（快速熱氧化）；注入退火；擴散；化合物半導體退火；滲氮；滲硅； 結晶化與致密化；
光刻機/紫外曝光機 參考價：面議
光刻機/紫外曝光機該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以...
勻膠機，旋涂儀 參考價：面議
勻膠機，旋涂儀其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。
全自動 大尺寸 光刻機 參考價：面議
全自動 大尺寸 光刻機公司開發并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國*家研發并商業化光罩對準曝光機的...
電子束蒸發鍍膜系統 參考價：面議
電子束蒸發鍍膜系統熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Etcher、電子回旋共...
磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
磁控濺射鍍膜系統專業的沉積設備制造商，為各個領域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積...
深能級瞬態譜儀2-半導體表征 參考價：面議
深能級瞬態譜儀2-半導體表征深能級瞬態譜儀是半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態等的重要技術手段！測試功能：電容模式、定電容模式、電流模式、（雙關...
勻膠機 參考價：面議
勻膠機其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。
非接觸式取片器 參考價：面議
非接觸式取片器*符合自動化控制系統的需求。公司產品部門可以按照客戶*需求進行定制化產品生產。公司同樣生產用于平板（Flat Panel dispaly,FPD）...
劃片機 參考價：面議
劃片機The Scribe 100-4 is an unique machine designed scribing & breaking of delicat...
脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統 參考價：面議
脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統優異的性能, PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統在國內有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。歡迎前來參觀咨詢。
脈沖激光沉積鍍膜系統（PLD） 參考價：面議
脈沖激光沉積鍍膜系統（PLD）靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準...
基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統 參考價：面議
基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統The polymer material will then deposit on the substrate while the ...
空氣示蹤器-德國氣溶膠設備 參考價：面議
空氣示蹤器-德國氣溶膠設備此儀器用于空氣流動的觀測，可以自身可控產生非危險煙氣，便于攜帶和安裝測試。使用時，在選定檢測點由探頭頂部產生煙氣，氣流平緩穩定。廣泛應...
煙霧發生器-德國氣溶膠設備 參考價：面議
煙霧發生器-德國氣溶膠設備此系統致力于煙霧的研究，廣泛應用在各國授權的煙火研究分析實驗室，專業分析高標準濾材。 某些特殊行業需要超高潔凈度，對濾材要求高，例如核...
高濃度/高溫/高壓氣溶膠稀釋器-德國設備 參考價：面議
高濃度/高溫/高壓氣溶膠稀釋器-德國設備粒徑范圍內具有很低的顆粒物損失率。在高濃度的氣溶膠分析時，它能降低顆粒物入口濃度，使顆粒物的入口濃度在儀器操作Z敏感、精...
粉塵氣溶膠發生器-德國設備 參考價：面議
粉塵氣溶膠發生器-德國設備將粉末樣品裝入圓柱型存儲器中,通過活塞輸送到旋轉刷,旋轉刷將準確輸送一定量的樣品到擴散頭,在擴散頭處通過噴嘴加速,氣流將被加速到180...
凝聚式單分散氣溶膠發生器2-德國設備 參考價：面議
凝聚式單分散氣溶膠發生器2-德國設備凝聚式單分散氣溶膠發生器包含三個部分:晶核源,蒸發器,冷凝器.首先通過一般的噴霧發生器產生晶核源,晶核經過裝有氣溶膠物質(如...
濾料測試系統2-德國氣溶膠設備 參考價：面議
濾料測試系統2-德國氣溶膠設備MFP系統配置We-las氣溶膠粒徑譜儀,可含兩個傳感器,其中一個測定濾料的上游顆粒濃度,測定濃度可高達1000mg/m3而無須稀...
氣溶膠粒徑譜儀-德國設備 參考價：面議
氣溶膠粒徑譜儀-德國設備本系統采用均勻的氙燈白光源,氣溶膠粒子流經過光源,產生光散射效應,90度散射角進行檢測,軟件采用全程的Mie式理論計算,得到粒徑大小的體...
探針臺-測試設備 參考價：面議
探針臺-測試設備(Analytical Probe Station)我司代理的探針臺型號很多，有晶圓探針臺、LCD/OLED探針臺、RF探針臺、LD/PD探針臺...
多功能磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發、電子束蒸發)多種薄膜沉積設備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發、熱蒸發等。
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