首頁>>孚光精儀（中國）有限公司>>產品展示>>其他品牌
高增益透鏡喇叭天線 參考價：面議
高增益透鏡喇叭天線（HGLHA）是高頻透鏡喇叭天線，標稱增益超過40dB。它們由一個矩形波導饋線和高質量標準法蘭組成，該饋線照亮了一個平凸聚四氟乙烯（PTFE）...
卡塞格倫反射系統 參考價：面議
卡塞格倫反射系統（CRS）是一種高頻拋物面天線，由一個錐形饋喇叭天線、一個主拋物面鏡和一個次雙曲面鏡組成。進料和主鏡的設計旨在最大限度地提高溢出效率，同時將堵塞...
頻率選擇表面,Cu-Au微網格陣列 參考價：面議
頻率選擇表面FSS由一層圖案化的Cu-Au微網格陣列組成，具有定制的形狀以滿足客戶的規格要求。
微型微波雷達 參考價：面議
微型微波雷達uRAD提供三種24GHz,60 GHz和77 GHz三種頻段,開發微波雷達解決方案,這種雷達是所有年齡段的開發人員或學生的工具。
矢量網絡分析儀校準器,VNA自動校準儀 參考價：面議
該矢量網絡分析儀校準器模塊通過USB或5.5 DC連接器通電，并通過USB或LAN與VNA進行通信，通過一個啟動按鈕，可通過VNA的四端口校準完成一個端口。
脈沖式IV/RF表征系統 參考價：面議
脈沖式IV/RF表征系統是為電流-電壓測試和射頻測試設計的脈沖式電流-電壓/射頻測試系統，已成為捕獲有源器件（如場效應和雙極結晶體管）的電流-電壓特性的儀器。
微波介電常數測量儀 參考價：面議
微波介電常數測量儀Dielectrometer是為器件介電常數測量設計的高精度介電常數測試儀器。
高精度金剛石線割機,線鋸 參考價：面議
這款高精度金剛石線割機WS-25B,wire saws是脆性材料金剛石線鋸和金剛石線切割機,它是世界上較先采用金剛石點線而無磨料的金剛石線割機,也是進口線割機品...
射頻等離子體發生器 參考價：面議
這款射頻等離子體發生器是進口射頻等離子體放大器,提供13.56MHz,120W的射頻等離子體發射,非常適合工業,科研和醫學應用。可提供射頻等離子發射功率有300...
高級等離子體表面處理系統,表面活化增強 參考價：面議
高級等離子體表面處理系統NEBULA是為器件等離子體處理設計的大型等離子體處理機器,離子體表面處理系統NEBULA用于等離子體清潔、附著力改善,等離子體表面活化...
等離子體表面處理儀 參考價：面議
等離子體表面處理儀CIRRUS & NIMBUS是英國進口大氣等離子體處理系統,分別為單噴嘴大氣模式和雙噴嘴大氣等離子體清洗儀器,適合等離子體表面活化、等離子體...
大型旋涂儀,光刻膠勻膠,甩膠 參考價：面議
大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應用設計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。
全自動勻膠機,旋涂機,勻膠儀 參考價：面議
這款全自動勻膠機是進口自動勻膠儀器,采用功能強大的旋涂機系統專為所有應用的研究和可變工藝而設計。
臺式等離子體清洗機,表面清洗 參考價：面議
臺式等離子體清洗機HPT-100是為器件元件等離子體處理設計的離子體表面清洗機器,臺式等離子體清洗機用于等離子體清潔、附著力改善,等離子體表面活化增強表面潤濕性...
離子風噴槍 參考價：面議
離子風噴槍是專業為半導體晶圓去除靜電,灰塵,碎屑污染物設計的電離子噴槍。不僅適用于半導體,光學行業,也適用于醫療和電子行業。快速輕松地清除附著在硅片和掩膜等表面...
晶圓盒對齊器Notchfinder是自動對齊晶片盒 參考價：面議
晶圓盒對齊器Notchfinder是自動對齊晶片盒。在對齊過程中，經處理的晶片表面不會接觸盒。存儲8個角度，一個可自由編程,集成檢查模式允許檢查晶圓邊緣。可用于...
桌面型自動批量晶片轉移器,晶圓轉移 參考價：面議
桌面型自動批量晶片轉移器是為批量晶圓轉移設計的自動晶圓轉移設備,實現批量晶片在兩個晶片盒之間水平“滑動傳送"。
進口spin coater,勻膠儀,甩膠儀,旋涂儀 參考價：面議
這款進口spin coater是高精度勻膠儀,勻膠臺,甩膠儀,涂膠儀,旋涂儀,結構緊湊,具有先進的功能,可安裝到手套箱中使用。
晶圓顯影清洗機適合NMP剝離,顯影,光膠去除 參考價：面議
晶圓顯影清洗機SD12具有晶圓顯影機和晶圓清洗機的雙重功能，該晶圓顯影清洗機可滿足12英寸（300mm）圓片、9英寸×9英寸（230毫米×2...
涂膠顯影機,勻膠xian影機 參考價：面議
涂膠顯影機是手動型勻膠顯影機,適合6''和8''的實驗室涂膠和顯影應用。涂膠顯影機適合不同類型的光刻化學試劑，通過腔體設計，提供均勻、精確和重復性高的涂膠結果。
半自動晶圓鍵合機適合膠黏鍵合,共晶鍵合 參考價：面議
半自動晶圓鍵合機SB6/8e采用SUSS MicroTec晶圓鍵合工藝,處理鍵合200mm以下各種形狀和類型的襯底和晶圓。適合鍵合類型包括臨時晶圓鍵合,膠黏鍵合...
晶圓蝕刻清洗機CES是ULTRA晶圓shi刻清潔系統 參考價：面議
晶圓蝕刻清洗機CES是ULTRA晶圓蝕刻清潔系統,滿足晶片、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求。
晶圓去膠剝離機,光刻膠清洗機適合光膠bo離 參考價：面議
晶圓去膠剝離機RSSx124,126,128,133系列是ULTRA光刻膠清洗機器,適合晶片、光掩模和基板清洗去膠剝離工藝需求。晶圓去膠剝離機RSSx 124、...
光刻膠顯影機,光刻jiao工作站 參考價：面議
光刻膠顯影機PRD405/408/409是自動批量顯影和沖洗晶片和光掩模上正性光刻膠工作站。光刻膠顯影機利用一個處理槽進行顯影和沖洗，以快速有效地處理晶片。快速...
9