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序號

儀器名稱

數量

單位

詳細技術指標及配(附)件

1

雙光子三維光刻機

1

套

1.雙光子三維加工系統：

1.1氣冷飛秒光纖激光器重復頻率：80MHz ± 1MHz；

1.2平均輸出功率：＞120ｍＷ；

1.3中心波長：780 nm ± 10 nm；

1.4樣品運動系統：三維方向最大行程均為300μm的納米位移臺；

1.5二維加工系統最大行程：100mmx100mm機械運動臺；

1.6光斑運動系統：最大掃描面積達到Ø=1 mm的二維掃描振鏡；

1.7垂直方面最大行程：8mm的位移系統；

1.8全自動找界面系統：配置可以實時觀測加工過程的高精度顯微鏡相機；配置可以用于無塵室的氣浮光學平臺；操作員控制臺：XY方向以及Z軸方向運動控制器；配置能操控系統外設的電腦；配置適用于無塵室的不銹鋼工作臺，大小120 x 80 cm²；

2.光刻機透鏡模組：

2.1最高精度的3D微納加工套件：可使用鏡頭浸入式加工模式及普通油浸鏡頭加工模式；使用光斑掃描加工模式時最大單次加工面積為Ø = 200 ?m；浸入式鏡頭物鏡3D SF； 63x；NA=1.4；

2.2中等精度的3D微納加工套件：可使用鏡頭浸入式加工模式及普通油浸鏡頭加工模式；使用光斑掃描加工模式時最大單次加工面積為Ø = 400 ?m；浸入式鏡頭物鏡3D MF； 25x；NA=0.8；

2.3介觀尺度的3D微納加工套件：可使用鏡頭浸入式加工模式及普通油浸鏡頭加工模式；使用光斑掃描加工模式時最大單次加工面積為Ø = 1,000 ?m；浸入式鏡頭物鏡3D LF； 10x；NA=0.3；

2.4介觀尺度的二維加工套件：可使用空氣鏡頭以及光斑掃描加工模式，最大單次加工面積為Ø = 600 ?m；浸入式鏡頭物鏡2D MF； 20x；NA=0.5；

3.整體設備技術指標：

*3.1橫向最小三維線寬：<200nm；

*3.2橫向最小二維線寬：<160nm；

*3.3結構垂直方向最佳分辨率（最小間隔）：≤1000 nm （投標時需提供合理的參數驗證方式，并且在交貨時，驗證該項參數，無法驗證或驗證不合格將不予以驗收）；

3.4結構橫向最佳分辨率：500nm ；

3.5二維平面可加工范圍：≥100mm×100mm；

3.6壓電納米三維移動工件臺執行寫入作業重復精度誤差：<±10nm；

3.7振鏡掃描模式最高寫入速度：≥10mm/sec；

3.8監控：可對加工過程實時監控；

*3.9其他：安裝培訓時需現場加工一件4-5層橫豎交錯的木堆結構，其最上層木材單個寬度不大于200nm（投標時需提供合理的參數驗證方式，并且在交貨時，驗證該項參數，無法驗證或驗證不合格將不予以驗收）。